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簡介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI霍爾離子源eH1000,低成本設(shè)計提供高離子電流,特別適合中型真空系統(tǒng).通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜,預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.

簡介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI考夫曼型離子源RFICP100緊湊設(shè)計,適用于離子濺鍍和離子蝕刻.小尺寸設(shè)計但是可以輸出400mA離子流.考夫曼型離子源RFICP100源直徑19cm安裝在10”CF法蘭...

簡介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI霍爾離子源eH2000是一款更強(qiáng)大的版本,帶有水冷方式,他具備eH1000所有的性能,低成本設(shè)計提供高離子電流,特別適合大中型真空系統(tǒng).通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜,預(yù)清洗和低...

簡介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI霍爾離子源eH400低成本設(shè)計提供高離子電流,霍爾離子源eH400尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng),可以控制較低的離子能量,通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜,預(yù)清洗和低能量離...

簡介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC40:小型低成本直流柵極離子源.KDC40是3cm考夫曼型離子源升級款.具有更大的柵極,更堅固,可以配置自對準(zhǔn)第三層?xùn)艠O.離子源KDC40適用于所有的離...

簡介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC10:考夫曼型離子源Gridded系列最小型號的離子源.適用于集成在小型的真空設(shè)備中,例如預(yù)清洗,離子濺射,離子蝕刻.在1000eV低能量,通Ar氬氣時...

簡介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC75:緊湊柵極離子源,離子束直徑14cm,可安裝在8“CF法蘭.適用于中小型腔內(nèi),考夫曼離子源KDC75包含2個陰極燈絲,其中一個作為備用,KDC75提...

簡介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI射頻離子源RFICP140是一款緊湊的有柵極離子源,非常適用于離子束濺射沉積,離子輔助沉積和離子束刻蝕.在離子束濺射工藝中，射頻離子源RFICP140配有離子光學(xué)元件,可...

簡介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRi射頻離子源RFICP220高能量柵極離子源,適用于離子濺鍍,離子沉積和離子蝕刻.在離子束濺射工藝中,射頻離子源RFICP220配有離子光學(xué)元件,可以很好的控制離子束去濺射...

簡介：上海伯東美國KRi大口徑射頻離子源RFICP380,3層?xùn)艠O設(shè)計,柵極口徑38cm,提供離子動能100-1200eV寬束離子束,zui大離子束流1000mA,滿足300mm(12英寸)晶圓應(yīng)用.廣...