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簡介:DE400D熱阻蒸發(fā)儀可配置一個(gè)多組蒸發(fā)源,基片架裝于腔體頂部旋轉(zhuǎn)或腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動(dòng)的軸上基片可以改變鍍膜角度
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簡介:DE500磁控濺射儀主要包括濺射腔體,4個(gè)濺射源和一個(gè)樣品臺(tái)可裝載并濺射zui大六英寸樣品,系統(tǒng)極限真空度10-8托,可用于濺射金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料,可用于濺射合金及多層薄膜材料,特別的是可以維...
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