超高的基本性能之外，更大大提升了觀察性、操作性、耐久性可以觀察的硅片直徑為200mm
觀察倍率15X～3000X（視目鏡和物鏡的組合而定）
ECLIPSE L200N 反射照明專用 ECLIPSE L200ND 反射.透射照明專用
觀察性能提升
擴(kuò)大檢查范圍的反射熒光觀察（L200ND）
反射照明觀察，除可進(jìn)行明場、暗場、微分干涉觀察之外，更可進(jìn)行UV（365nm)激發(fā)的反射熒光觀察。
對于半導(dǎo)體感光薄膜的殘渣、有機(jī)EL顯示面板的觀察發(fā)揮了很大的威力。
使用物鏡：CFI LU PLAN FLUOR 10X
硅片的明場觀察 暗場觀察 微分干涉觀察 反射熒光觀察
反射熒光觀察用的電動水銀光纖光源[強(qiáng)光](L200ND)
光源采用了預(yù)定心電動水銀光纖光源[INTENSILIGHT]。更換燈泡時不用進(jìn)行燈絲調(diào)心和對焦。
燈箱可與主機(jī)分離設(shè)置，以降低光源發(fā)熱對顯微鏡的影響。6段式的調(diào)光機(jī)能和快門機(jī)能，實現(xiàn)了良好的操作性。
約2000小時超長使用壽命的燈泡大幅降低了使用成本。
操作性能提升、理環(huán)保
比12V100W更亮的高亮度12V50W鹵素?zé)?/span>采用了12V50W的[LV-LH50PC預(yù)定心燈箱]，與12V100W相比，耗電量削減了約一半，又可達(dá)到與其同等甚至更亮的亮度。
燈絲位置經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計，且燈箱里有反光鏡，使照明視場均勻，并提高照明效率。特別是用到50倍以的高倍物鏡時，能得到比12V100W亮約20%的觀察圖象。
更環(huán)保，也能防止因熱量而造成的焦面偏移的干擾。
抗污染的防靜電涂層
主機(jī)、載物臺、鏡筒均涂有消靜電涂層。為了提高抗污染能力，防止工件因靜電感應(yīng)而受損，從而提高成品率。
可調(diào)節(jié)到位置進(jìn)行觀察的正立調(diào)傾式三目鏡筒
視場數(shù)25的超大視場，可任意設(shè)定0～30°的觀察角度。根據(jù)使用者體型和觀察姿勢的不同，可將三目鏡筒調(diào)節(jié)到位置松隨意的進(jìn)行觀察。
載物臺微調(diào)手輪無需移動工件
不用移動工件，載物臺微調(diào)手柄位置固定于顯微鏡主機(jī)操作部旁。
所有的操作部都盡在手邊，移動載物臺、對焦等顯微操作，不用抬手，只需動動手腕就可輕松執(zhí)行。
耐久性比以前高3倍的電動通用物鏡轉(zhuǎn)換器
最多可以安裝到6個物鏡。和偏心較小的物鏡結(jié)合使用，用高倍物鏡觀察時切換倍率也很少會出現(xiàn)圖象閃動現(xiàn)象。
從低倍到高倍的自由切換更穩(wěn)定?？紤]到使用者，在旋轉(zhuǎn)物鏡轉(zhuǎn)換器時會自動切斷照明光路，避免光直接照射使用者眼晴。
對焦目標(biāo)
對焦目標(biāo)可移入光路，這一特性對于裸硅片之類的低對比度工件的正確對焦成為方便。
顯微鏡操作部位集中于底座前部
操作手輪、按鍵等，都集中于底座前部，更便于使用。一看就能快捷高效的進(jìn)行顯微操作。大大減輕了長時間觀察的疲勞感。
獲取圖象，提升與顯微鏡用數(shù)碼相機(jī)的聯(lián)動力
實現(xiàn)了從觀察到圖象拍攝、分析的整體化
·尼康開發(fā)提供了便于使用的顯微鏡、數(shù)碼相機(jī)和軟件一體化的高機(jī)能設(shè)備系統(tǒng)。
·支持從設(shè)定觀察條件，到數(shù)碼拍攝→處理→分析的整個流程。
用于LSI檢查顯微鏡 ECLIPSE L200N
Wafer Loader NWL200系列
與ECLIPSE L200N相結(jié)合，對應(yīng)的硅片檢查需要。
運用獨立的尼康技術(shù)，穩(wěn)定傳輸超薄型100um硅片。
目鏡筒：L2-TTA超大視場正立調(diào)傾式三目鏡筒；
L2-TT2A超大視場正立調(diào)傾式三目鏡筒；
LV-T13正立三目鏡筒；
