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- 公司名稱 常州達森特無損檢測設備有限公司
- 品牌
- 型號
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- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2024/12/11 14:18:11
- 訪問次數(shù) 3
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產品介紹:GEKKO64x64相控陣便攜檢測儀,專為現(xiàn)場檢測設計,集成常規(guī)超聲探傷技術和相控陣科技為一體
產品介紹:
GEKKO64x64相控陣便攜檢測儀,專為現(xiàn)場檢測設計,集成常規(guī)超聲探傷技術和相控陣科技為一體。具備軟件界面簡單,校準操作快捷,堅固便攜適應性強的特點。
通道配置:64x64
適用領域:航空航天,能源化工等領域定期現(xiàn)場質量檢測
主要特點:操作簡單:圖形向導,探頭自動識別
適應性強:A,B,C,S掃;TOFT,DDF
堅固便攜:防水防塵,觸屏,雙電池
技術:二維矩陣探頭,實時TFM
其他技術:報告生成,柔性探頭,CIVA模擬, 3D成像系統(tǒng)
二、法國M2M高級相控陣超聲波探傷儀
特點:
1.堅固便攜
GEKKO是為在役檢測而設計,它必須能應付各類復雜的工作環(huán)境。為能保證設備穩(wěn)定而持久的工作,內部電子設備的屏蔽與保護至關重要。GEKKO采用了
全密閉式鎂合金外殼,背部采用專業(yè)散熱設計,兼顧了堅固,密閉,輕便,散熱好及美觀等特點。而且所有的接口均采用防水設計。
2.操作簡單
我們讓設備的操作界面盡量的簡單直觀,操作人員可以在短短幾個小時內熟練掌握儀器的各步驟操作。GEKKO參數(shù)配置界面采用了更加流程化,邏輯化的設計。
操作界面由檢查前準備工作的幾大步驟組成:待檢測工件 → 探頭 → 編碼器(或掃查器)→聚焦法則(超聲方法)→ 閘門設置 → 幅值(增益)校準。
3.實時全聚焦成像技術
全聚焦成像技術(TFM)通過特殊的的數(shù)據采集方法與成像技術能對缺陷進行非常精確的成像。使得超聲檢測在缺陷定量及定性上更加的準確。全聚焦技術采用
了全矩陣捕捉法(FMC)對檢測區(qū)域進行數(shù)據采集。
下面是一些標準試塊(材料:鋼)上的檢測示例。它們驗證了該算法的對缺陷高分辨率,尤其是出色的近場與遠場分辨率。檢測使用的64陣元,頻率為5 MHz的
線性相控陣探頭。成像結果更接近"X-射線"型超聲檢測?;夭ú挥迷偻ㄟ^經驗進行辨識,缺陷輪廓清晰,使缺陷評估更加容易。成像速度可達30幀每秒。
4.ASME試塊使用直接反射模式的TFM成像,垂直切口缺陷的扇掃和TFM成像對比,檢測垂直裂縫采用扇形掃描是無損檢測人員的標準做法。當缺陷上端衍射波
不容易發(fā)現(xiàn)的情況下,缺陷的大小很難被評定。下面兩個例子說明在橫波模式下使用一次波的聲程下TFM成像能大幅度提高缺陷的分辨率。此外回波不用再通過
經驗進行判定,缺陷的輪廓清晰。所得到的成像結果便能真實反映缺陷情況。
5.二維面陣探頭高級掃查方法
可以利用GEKKO的全平行特點,來控制二維面陣探頭進行更復雜的空間多角度掃查。在一些工件中(如焊縫,鐵軌等),缺陷的走向是隨機的,而探頭能擺放的
位置是受限的。面陣探頭則可以對不同走向的缺陷進行有效的檢測。GEKKO已經預設值了面陣探頭三維掃查的延遲法則,通過此法則我們可以激發(fā)多個扇掃掃查面,
各掃查面之間有一定的夾角。用戶可根據需要設置扇掃的夾角,扇掃數(shù)量及各扇掃間的夾角。在進行檢測時,可同時實時顯示多個扇掃的掃查結果。當然使用面陣
探頭還有更多更復雜的掃查聚焦方式,這些我們可以通過CIVA軟件來進行復雜的聚焦設置,然后將聚焦法則導入GEKKO中。GEKKO與CIVA之間的數(shù)據兼容。
三、法國M2M高級相控陣超聲波探傷儀
技術參數(shù):
1.技術:
支持二維面陣探頭、實時全聚焦成像 (TFM)、CIVA聚焦計算引擎嵌入 、三 維空間成像 、柔性探頭實時延遲修正。
2.堅固便攜:
10.4 寸觸摸屏 、鎂合金外殼加防震蒙皮 密閉設計防水防塵 、雙熱插拔電池
3.功能全面:
64組全平行通道配置、多掃查組設置、脈沖回波、收發(fā)分離、TOFD、DDF、FMC 預置應用模塊、自由設置模式
4.界面清晰:
流程化參數(shù)配置界面、設置向導及簡易校準工具、適合各水平操作員、探頭參數(shù)自動識別、檢測報告生成工具
5.實時全聚焦成像 Real-Time TFM
實時聚焦點可達: 62 000 成像速度: 30幀每秒
6. Real-Time TFM:
波程計算模式: 直接反射, 單次界面反射,二次界面反射
波形模式: 縱波, 橫波 及 模態(tài)轉換模式
7.空間三維聚焦:
探頭類型: 2D面陣, 環(huán)狀扇形, 參數(shù)化2D面陣
5幅不同空間夾角的扇掃同時成像
8. 3D focusing:
空間三維實時成像
9.應用模塊化-設置向導化
參數(shù)設置流程向導
單一技術預置模塊: 全聚焦 , 面陣探頭, 扇型掃查, 線性 掃查, 常規(guī)單晶探頭, TOFD
10. APP-oriented GUI
同一探頭多掃查方式混合使用模塊
個性化檢測報告自動生成
11.軟件界面
預置應用模塊,參數(shù)配置向導,數(shù)據分析,報告生成
采集數(shù)據實時成像:A-掃, B-掃, S-掃, C-掃
實時全聚焦成像 (TFM), 三維空間實時成像
檢測方法: 脈沖回波, TOFD,收發(fā)分離, 深度動態(tài)聚焦
基于CIVA的聚焦法則運算核心, 與CIVA數(shù)據類型互通
12.相控陣
支持線性及二維面陣探頭
線性掃
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