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返回產品中心>截面研磨速率高達1mm/h*1!新研發(fā)的PLUSII離子槍發(fā)射出高電流密度離子束,大幅提高*2了研磨速率
新研發(fā)的PLUSII離子槍發(fā)射出高電流密度離子束,大幅提高*2了研磨速率。
截面研磨結果對比
(樣品:自動鉛筆芯、研磨時間:1.5小時)
本公司產品IM4000PLUS
ArBlade 5000
使用廣域截面研磨樣品座,加工寬度可達8 mm,十分適用于電子元件等的研磨。
IM4000系列復合型(截面研磨、平面研磨)離子研磨儀。
可根據需求對樣品進行前處理。
切割或機械研磨難以處理好的軟材料或復合材料的截面制作
機械研磨后樣品的精修或表面清潔
截面研磨加工示意圖
平面研磨加工示意圖
通用 | |
---|---|
使用氣體 | Ar(氬)氣 |
加速電壓 | 0~8 kV |
截面研磨 | |
研磨速率(材料Si) | 1 mm/hr*1以上含 1 mm/hr*1 |
研磨寬度 | 8 mm*2 |
樣品尺寸 | 20(W) × 12(D) × 7(H) mm |
樣品移動范圍 | X ±7 mm、Y 0~+3 mm |
離子束間歇加工功能 | 標準配置 |
擺動角度 | ±15°、±30°、±40° |
平面研磨 | |
加工范圍 | φ32 mm |
樣品尺寸 | φ50 × 25(H) mm |
樣品移動范圍 | X 0~+5 mm |
離子束間歇加工功能 | 標準配置 |
旋轉速度 | 1 r/m、25 r/m |
傾斜角度 | 0~90° |
項目 | 內容 |
---|---|
高耐磨遮擋板 | 耐磨遮擋板是標準遮擋板的2倍左右(不含鈷) |
加工監(jiān)測用顯微鏡 | 放大倍率 15×~100× 雙目型、三目型(可加裝CCD) |
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