SPECTRO GENESIS ICP全譜直讀等離子發(fā)射光譜儀
采用 ICP激發(fā)源和半導(dǎo)體固態(tài)檢測(cè)器的全自動(dòng)發(fā)射光譜同時(shí)檢測(cè)的全譜直讀發(fā)射光譜儀,用于對(duì)液體樣品中各種元素的定性、半定量和定量分析。可以檢測(cè)72個(gè)元素,檢測(cè)范圍PPB-35%
部分元素檢出限:(單位:PPB)
Ag:0.5、 Al:0.6、 As:2.5、 Au:4、 B:0.3 、Ba:0.2 、Be:0.5 、Bi:1
Ca:0.5、 Cd:0.1、 Ce:5、 Co:0.2、 Cr:0.4 、Cu:0.4 、Fe:0.2、 Ga:2
Gd:3、 Ge:2、 Hg:1、 n:5、 Ir:6、 K:1.7、 La:0.5、 Li:0.3、 Mg:0.3
Mn:0.05、 Mo:0.5、 Na:0.9、 Ni:0.3、 Os:10、 P:6.5、 Pb:1.1、 Pd1.2
Pt:2.2、 Re:4、 Rh:4、 Ru:1.1 、S:6 、Sb:1.5 、Se:2.5 、Si:1.5、 Sn:1.8
Te:5、 Ti:0.1、 V:0.35、 Y:0.4、 Zn:0.2、 Zr:0.2
應(yīng)用SPECTRO側(cè)向等離子體接口(SPI)的側(cè)向觀測(cè)等離子體用于高濃度和主成分檢測(cè)、高固含量和有機(jī)物分析,可以提高線性范圍、準(zhǔn)確度和精度。
利用優(yōu)化的層流、低流速吹掃機(jī)理的SPI保證光路中無(wú)氧氣、減少對(duì)紫外區(qū)波長(zhǎng)的吸收。這個(gè)技術(shù)可保證易維護(hù)的入射光學(xué)組件不受污染,使得175-190nm光譜范圍的譜線的穩(wěn)定和超常的靈敏度。
用于工業(yè)分析的工廠預(yù)校準(zhǔn)分析方法包。下面是可供選擇的方法包:
工業(yè)廢水(只有基本的方法)、污泥、土壤、油品中磨損金屬/添加劑、礦石、金屬材料
分光系統(tǒng):
恒溫在+30C 0.1C;中空防熱彭脹雙帕邢-龍格羅蘭圓設(shè)計(jì);焦距400mm;全息凹面原光柵,刻線密度2400刻線/mm;石英光學(xué)部件;全部是1級(jí)波長(zhǎng)覆蓋;波長(zhǎng)范圍:175 - 777 nm;入射狹縫:15 μm
檢測(cè)器:
根據(jù)所在波長(zhǎng)精心選擇并進(jìn)行化設(shè)計(jì)的15個(gè)線性CCD連續(xù)排列在羅蘭圓上;分辨率14pm;與光學(xué)系統(tǒng)一樣恒溫在;動(dòng)態(tài)范圍為108,全波長(zhǎng)覆蓋,ICAL自動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)化
紫外系統(tǒng):
氬氣吹掃系統(tǒng), 化低流量吹掃(只在分析190nm以下元素時(shí)使用)
高頻發(fā)生器:免維護(hù)型,頻率為27.12MHz,發(fā)生器功率:0.7 to 1.7 kW
進(jìn)樣系統(tǒng)及炬管單元
• Lock-in-Place快速換裝設(shè)計(jì)
• Gas flows under full computer control氣體流量全部由計(jì)算機(jī)控制
o Plasma gas等離子氣 : 0 – 20 l/min in 0.1 l/min increments
o Auxiliary gas輔助氣 : 0 – 3 l/min in 0.01 l/min increments
o Nebulizer gas霧化氣 : 0 – 1.5 l/min in 0.01 l/min increments
• 計(jì)算機(jī)控制4速、3通道、12滾軸進(jìn)樣蠕動(dòng)泵