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XAD光譜分析儀 SDD探測(cè)器上照式X射線熒光光譜儀

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XAD系列熒光光譜儀是一款全元素上照式光譜儀,可測(cè)量納米級(jí)厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚,也可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及多元素成分分析,的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題

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XAD系列熒光光譜儀是一款全元素上照式光譜儀,可測(cè)量納米級(jí)厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚,也可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及多元素成分分析,的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。


性能優(yōu)勢(shì):

1. 微小樣品檢測(cè):最小測(cè)量面積0.0085mm2

2. 變焦裝置算法:可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-90mm

3. 核心EFP算法Al(13)-U(92)元素的成分分析,Li(3)-U(92)元素的涂鍍層檢測(cè),多層多元素,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量

4. 的解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限

5. 高性能探測(cè)器:SDD硅漂移窗口面積50mm2探測(cè)器

6. X射線裝置:微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦裝置

7. 上照式設(shè)計(jì):實(shí)現(xiàn)對(duì)超大樣品或者密集點(diǎn)位進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測(cè)量

8. 大行程移動(dòng)平臺(tái):手動(dòng)XY滑臺(tái)100*150mm,自動(dòng)XY平臺(tái)200*200mm


應(yīng)用領(lǐng)域:

涂鍍層分析-RoHS檢測(cè)-地礦全元素分析-合金、貴金屬檢測(cè)

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涂鍍層分析

行業(yè)應(yīng)用:


巧妙的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì):

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一六儀器研制的測(cè)厚儀的光路交換裝置,讓X射線和可見光攝像同一垂直線,達(dá)到視覺與測(cè)試定位一體,且X光擴(kuò)散度?。慌cEFP軟件配合達(dá)到對(duì)焦、變焦雙焦功能,實(shí)現(xiàn)高低、凹凸不平各種形狀樣品的測(cè)試;高集成的光路交換裝置與接收器的角度可縮小一倍,可以減少弧度傾斜放樣帶來的誤差,同時(shí)特征X射線可以穿透測(cè)試更厚的表層。


核心EFP算法:

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專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在AlphaFp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。


RoHS領(lǐng)域

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合金、貴金屬、地礦檢測(cè)

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技術(shù)參數(shù)表

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