離子減薄技術(shù)通常采用惰性氣體 氬，通過將氬氣離子化后，在電場 加速作用下轟擊到樣品表面，利用 動(dòng)量轉(zhuǎn)移的方式進(jìn)行可控速率條件 下，物理濺射轟擊的方式對樣品進(jìn) 行減薄，最終實(shí)現(xiàn)樣品能夠達(dá)到透 射電鏡所需的電子束穿透厚度。

• 兩支獨(dú)立可調(diào)電磁聚焦離子槍 

• 同時(shí)具備高能量(快速拋光)和低能量(精細(xì)修復(fù)) 

• 超寬加速電壓范圍：100eV到10kV，不同加速電壓下，離子束束斑均保持最細(xì)束斑狀態(tài) 

• 每支離子槍均配備對應(yīng)法拉第杯進(jìn)行離子束直接探測 

• 采用可調(diào)節(jié)10英寸觸屏控制系統(tǒng)，人機(jī)界面友好，操作簡潔 

• 自動(dòng)獨(dú)立氣源控制 

• 減薄角度范圍：-15°到 +10°連續(xù)可調(diào) 

• 樣品載臺(tái)X-Y可調(diào)，可根據(jù)需要調(diào)整樣品減薄位置 

• 具備原位實(shí)時(shí)觀察及記錄減薄過程功能 

• 樣品可360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)或搖擺，離子束自動(dòng)避讓樣 品夾 

• 可通過時(shí)間、溫度以及透光性自動(dòng)停止 

• 可選液氮冷臺(tái)配置，去除熱效應(yīng)對樣品的損傷 

• 可選真空或惰性氣體轉(zhuǎn)移裝置，隔絕樣品與水氧接觸