特點：本儀器采用非接觸、光學相移干涉測量方法，測量時不損傷工件表面，能快速測得各種工件表面微觀形貌的立體圖形，并分析計算出測量結果。適用于測量各種量塊、光學零件表面的粗糙度；標尺、度盤的刻線深度；光柵的槽形結構鍍層厚度和鍍層邊界處的結構形貌；磁（光）盤、磁頭表面結構測量；硅片表面粗糙度及其上圖形結構測量等等

產(chǎn)品描述 
 特點：本儀器采用非接觸、光學相移干涉測量方法，測量時不損傷工件表面，能快速測得各種工件表面微觀形貌的立體圖形，并分析計算出測量結果。適用于測量各種量塊、光學零件表面的粗糙度；標尺、度盤的刻線深度；光柵的槽形結構鍍層厚度和鍍層邊界處的結構形貌；磁（光）盤、磁頭表面結構測量；硅片表面粗糙度及其上圖形結構測量等等。
由于儀器測量精度高，具有非接觸和三維測量的特點，并采用計算機控制和快速分析、計算測量結果，本儀器適用于各級測試、計量研究單位工礦企業(yè)計量室，精密加工車間，也適用于高等院校和科學研究單位等。
主要技術參數(shù)
表面微觀不平深度測量范圍
在連續(xù)表面上，相鄰二象素之間沒有大于1 / 4 波長的高度突變時：1000 一1nm
相鄰二象素之間含有大于1 / 4 波長的高度突變時：130 一1nm
測量的重復性：δRa ≤0.5nm
物鏡倍率:40X
數(shù)值孔徑:Φ 65 
工作距離:0.5mm
儀器視場  目視: Φ0.25mm
攝象: 0.13×0.13mm
儀器放大倍數(shù) 目視: 500×
攝象（計算機屏幕觀察）一2500×
接收器測量列陣:1000X1000
象素尺寸:5.2×5.2µm
測量時間采樣（掃描）時間:1S
儀器標準鏡     反射率（高）: ～50 %
反射率（低）: ～4 %
照明光源:白熾燈6V 5W
綠色干涉濾光片波長:λ≒530nm  
半寬度λ≒10nm  
主顯微鏡升程:110 mm
工作臺升程:5 mm
X 、丫方向移動范圍: ～10 mm
工作臺旋轉運動范圍:360°
工作臺頃斜范圍：±6°
計算機系統(tǒng)：P4 , 2 .8G 以上，內存1G以上17寸純平顯示器