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實驗室小型磁控大功率濺射儀

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實驗室小型磁控大功率濺射儀
KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

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小型離子濺射儀 鄭州 科探KT-Z1650PVD

實驗室小型磁控大功率濺射儀 

離子濺射儀功能:

一個更加廣泛的選擇由于全自動直流離子濺射儀在制樣過程中被提供給了掃描電鏡用戶,從而為掃描電子顯微鏡所需的涂層要求的適用提供了支持。在結構設計及人機界面方面簡單智能,對人性更加的注重。一個低成本的解決方案由于離子濺射儀對SEM樣品常規(guī)適用黃金濺射被提供了,與此同時能夠利用對金、鉑、銥、銀、銅等不同的靶材的更換來使得更細顆粒的涂層達到。與此同時,利用智能的人機界面對儀器的控制更加的方便、簡單以及準確,與此同時,能夠對鍍層厚度進行估算,對真空實時顯,濺射電流對濺射時間進行設定,對靶材的剩余情況進行計算。

 

實驗室小型磁控大功率濺射儀 

離子濺射儀在掃描電鏡(SEM)的樣品噴金方便為專用的儀器,樣品的導電性及導熱性可以非常有效的提供,使恒沉積速率得到確保,使等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷減少,使掃描電鏡觀測結果得到了較為顯著的提高。

產(chǎn)品特點:


? 彩色觸摸屏:數(shù)據(jù)輸入簡單快速

    ? 通過觸摸屏中直觀檢測數(shù)據(jù)和曲線;歷史頁面可顯示歷史涂層信息。

    ? 可控鍍膜速率,可得到更精細的晶粒結構

    ? 可手動或自動,根據(jù)時間或根據(jù)厚度進行濺射

? 樣品臺更換簡單:標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉;行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。




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