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金刻蝕光柵

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金刻蝕光柵

>>> 選擇光柵需要考慮的問題

該系列光柵主要用于高功率以及高效率的應用。

我們在金材料上設計和刻蝕光柵,用于紅外波段(412微米)的激光應用。金光柵特別適合于追求高效率紅外激光應用。在高功率應用中,為了避免高功率激光打壞光柵,通常都要在光柵上鍍一層鋁。該系列光柵的基質(zhì)是不脹鋼或者陶瓷。如果您希望用其他基質(zhì),可以和公司聯(lián)系。

產(chǎn)品性能

在特殊基質(zhì)上刻蝕的金層可以用于412微米的應用。

在銅基質(zhì)上鋁層刻蝕出來的是標準的分子激光光柵。

主要參數(shù)

線密度g/mm .............. 70 450

工作范圍(µm) ............. 412

基質(zhì) ................... 銅,不脹鋼,陶瓷,硅

通光孔徑 ............... 90%

劃線與邊緣的平行度 ....... ± 0.5°

尺寸公差 ................ ± 0.5 mm

厚度公差 ............... ± 0.5 mm

典型峰值效率(偏振).................95%


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