系統(tǒng)特點：

• 光學(xué)系統(tǒng)： 高光通量、單光束光學(xué)系統(tǒng)(起到雙光束作用)，大面積、雙閃耀波長的光柵單色器可提供全波長范圍內(nèi)光通量。全部使用有保護涂層、正面拋光的反射元件，同時光學(xué)元件還涂有防腐層。光路系統(tǒng)全部密封，進一步防止灰塵和腐蝕性氣體的侵入。

• 檢測研制成功的性能*的新型固體檢測器。具有光電倍增管無法相比的*性能。*的量子效率；無論在紫外區(qū)還是在可見區(qū)都有很高的靈敏度。不用負高壓，沒有暗電流，因而大大改善儀器的信噪比，把原子吸收儀器的性能提高到一個新的高度。

• 石墨爐： 置于主機內(nèi)的橫向加熱石墨爐原子化器(THGA)由計算機控制。石墨管被橫向加熱，因而沿著石墨管長度方向溫度均勻。石墨管的內(nèi)、外保護氣由計算機獨立控制，防止石墨管與空氣接觸被氧化，以大限度提高石墨管的壽命。氣動開、關(guān)石墨爐使石墨管與石墨電極接觸更緊密，更換石墨管亦變得更容易。塞曼效應(yīng)背景校正：一個與光路平行的，不用偏振鏡的，并由計算機控制的進行調(diào)制的O.8特斯拉的縱向磁場施加在石墨爐原子化器上。磁場只在原于化步驟時開啟。

• 的實際濕度控制： 自動監(jiān)控石墨管電阻、外界電壓、冷卻水溫度的變化，隨時進行功率補償。使原子化溫度無論在什么時間內(nèi)都能保持恒定，并且延長石墨管的使用壽命。

• 石墨爐冷卻系統(tǒng)： 由主機控制啟動循環(huán)冷卻水系統(tǒng)為石墨爐提供恒定的冷卻。在運行時水溫約為36℃，流速為2.5升／分鐘。注：無循環(huán)冷卻系統(tǒng)操作專家600型儀器時，使用的冷卻水應(yīng)滿足下列規(guī)范：無沉淀的飲用水；20-40℃；流量不小于2升／分鐘；壓力在2.5至4.5巴之間；PH值在6.5至7.5之間；硬度不超過14dh或100Ppm。

• 自動除煙裝置： 在儀器運行時自動地轉(zhuǎn)移到石墨管的進樣口上方以抽走在干燥和灰化步驟時產(chǎn)生的樣品煙霧。這些煙霧通過一個清洗和過濾裝置。除去有害的、有毒的和腐蝕性氣體(選購)。

• 石墨爐自動進樣器： 安裝在石墨爐前面的標準附件。可拆卸的樣品盤帶有88個或148個樣品杯位置可供放置樣品、標準溶液和基體改進劑使用，另有一個用于清洗進樣器的清洗容器。小樣品需要量為O．1ml，進樣體積為1-99ul，增量為1ul，大進樣體積為99ul(樣品體積十試劑體積)，；沖洗體積固定為1.3mI。自動進樣器由主機供電并由計算機控制。

• AA WinLab軟件

系統(tǒng)技術(shù)指標：

• 系統(tǒng)： 專家600型是全集成的桌面式設(shè)計石墨爐法原子吸收光譜儀，將所有的光譜儀和石墨爐組成部件集成于單個儀器中。

• 光路系統(tǒng)：
  分光計：單光束光路系統(tǒng)(e到雙光束作用)。光學(xué)元件表面涂有反射層。整個光路系統(tǒng)用保護蓋進行全封閉。
  單色器：李特涪型設(shè)計用馬達驅(qū)動對波長進行自動選擇和找峰。波長范圍：190一870nm。全息光柵：每毫米1800條刻縫，閃耀波長236nm和597nm。光柵面積：64x 72mm。線色散率倒數(shù)：1．6nm／mm(標稱值)。焦距：267mm。光譜通帶寬度：0．2，O．7和2．0nm，馬達狹縫驅(qū)動進行自動狹縫選擇。
  檢測器：寬范圍的分割式固體檢測器，包括一個內(nèi)藏的低噪聲cMoS電荷放大器陣列。
  自動燈選擇：8燈燈座，帶有空心陰極燈和無極放電燈電源。通過AA WinLab軟件由計算機對燈進行選擇和對燈位置進行校準。當使用Perkjn EImer的Lum噸空心陰極燈時‘元素?zé)舻墓ぷ麟娏鳎ㄩL及狹縫自動設(shè)定。

• 背景校正： 縱向交流塞曼效應(yīng)校正背景，使用調(diào)制的0．8特斯拉的縱向交流磁場。磁鐵只在原于化步驟時自動通電。自動檢測反轉(zhuǎn)點。

• 石墨爐： 全計算機控制的橫向加熱石墨原子化器(T的GA)在整個石墨管長度方向提供均勻的溫度。包圍在石墨管四周的外保護氣流防止外邊的空氣侵入 以大限度地延長石墨管壽命。內(nèi)氣流流經(jīng)石墨管內(nèi)以帶走在干燥和灰化階段已經(jīng)蒸發(fā)的基體蒸氣。這兩路氣流由計算機分別控制。氣動式開、關(guān)石墨爐使得石墨管更換變得容易。

• 程序的靈活性： 可設(shè)定多達12個步驟的分析程序。每一步可用下列參數(shù)進行編程：
  溫度：室溫至2600℃，每步小增量10℃
  斜坡時間：O至99秒，每步小增量1秒
  保持時間：0至99秒，每步小增量1秒
  內(nèi)氣流：0ml/min(停氣)，50ml／min(小氣流)，250ml／min(大氣流)，可切換到另一種氣體(更換氣體)
  石墨爐打開和關(guān)閉：軟件指令，氣動執(zhí)行
  所需的內(nèi)氣：氮氣小入口壓力300Kpa(3bar)。大氣體消耗700m1／min
  冷卻水：循環(huán)冷卻水系統(tǒng)包括在AAnalyst 600中(選購件)當不帶循環(huán)冷卻水系統(tǒng)操作AAnalyst 600時，應(yīng)使用滿足技術(shù)要求的冷卻水：無沉積物的飲用水20-40℃；流速不小于2L／Min，壓力在2．5和4．5bar之間；pH值在5．5至7．5之間，硬度不大于14dH或100ppm

• 石墨爐自動進樣器： 裝在石墨爐的前面。帶88個或148個位置供樣品溶液和參比溶液用的可折卸的樣品盤，另有一個可溢出的容器供清洗進樣器用。小樣品需要量約01ml。
  進樣體積：樣品和試劑：1-99ul，增量1ul，大可進樣量99ul(樣品體積十試劑體積)，；沖洗體積1．3ml。
  電子線路：自動進樣器由光譜儀供電并由軟件控制。

• 數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)： 全部由計算機AA WinLab軟件控制，提供對于儀器主機及其重要附件以及數(shù)據(jù)處理和儲存的控制。
  數(shù)據(jù)處理：儀器讀數(shù)以吸光度(-0.500A至+2.000A)、濃度和發(fā)射強度表示，讀數(shù)擴展范圍從O.01至100倍。操作者可選的積分時間從0．1秒至60秒，小增量01秒。讀數(shù)方式包括時間平均積分，非平均積分(峰面積)，和峰高測量。多達15上標準和多種校準方程。操作者可選定一個標準進行重校斜率。主機內(nèi)置lEEE4B8接口可與計算機和選購的附件聯(lián)接。
  計算機配置：IBM兼容計算機。In Pentium處理器，主頻166或更高；32M內(nèi)存或以上；1個串行接口、1個并行〔雙向)接口；1GB自由硬盤空間；3．5英寸軟盤驅(qū)動器、CD-ROM驅(qū)動器；SVGA圖形卡及兼容顯示器；鼠標及鍵盤；MS WindoWs NT操作系統(tǒng)；激光打印機。

• 尺寸和重量： 11ocm長x 65cm高x 70cm寬 (帶石墨爐自動進樣器時104cm寬) 重175Kg (不算控制系統(tǒng)和冷卻水系統(tǒng))

• 所需電源： 230V(+5％／-10％)，50／60HZ；5000VA
  電器防護：同EN61010-1-1993(IECl010-1)規(guī)定絕緣等級Ⅰ；絕緣分類(過壓分類)Ⅱ,污染程度2。

• 冷卻系統(tǒng)： 帶風(fēng)扇輔助熱交換器的自啟動循環(huán)系統(tǒng)(AAnalyst 800作為標準附件，AAnalyst 700作為選購系統(tǒng))用于給石墨爐提供恒定的冷卻。在儀器操作時水溫約36℃，水流25L／min。