Nanotrac wave II 納米粒度及zeta電位儀
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- 公司名稱 大昌華嘉科學儀器
- 品牌
- 型號 NanotracwaveII
- 所在地
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時間 2020/12/4 17:33:25
- 訪問次數(shù) 307
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納米粒度及zeta電位儀
公司介紹:
美國麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)是世界上*的激光應(yīng)用技術(shù)研究和制造廠商,其*的激光粒度分析儀已廣泛應(yīng)用于水泥,磨料,冶金,制藥,石油,石化,陶瓷,*等領(lǐng)域,并成為眾多行業(yè)的質(zhì)量檢測和控制的分析儀器。Microtrac Inc.公司非常注重技術(shù)創(chuàng)新,近半個世紀以來,一直著激光粒度分析的前沿技術(shù),可靠的產(chǎn)品和強大的應(yīng)用支持及完善的售后服務(wù),使得其不斷超越自我,推陳出新,。
Microtrac在在線顆粒大小和形狀測量方面有超過25年經(jīng)驗,了解過程加工環(huán)境的所有需求,在線測量的好處就是讓操作者能實時的看到過程的變化,使他們立即作出反應(yīng),得到高質(zhì)量的產(chǎn)品。
儀器簡介:
納米粒度測量——動態(tài)光背散射技術(shù)
隨著顆粒粒徑的減小,例如分子級別的大小,顆粒對光的散射效率急劇降低,使得經(jīng)典動態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測(PCS)變得更加不確定。40多年來,Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測量中的應(yīng)用。作為行業(yè)的先鋒,早在1990年,超細顆粒分析儀器 UPA(UltrafineParticle Analyzer)研發(fā)成功,*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運動而產(chǎn)生頻率變化的能譜概念,快速準確地得到被測體系的納米粒度分布。2001年,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(HeterodyneDoppler Frequency Shifts)技術(shù),結(jié)合動態(tài)光散射理論和*的數(shù)學處理模型,NPA150/250將分析范圍延伸至0.3nm-10μm,樣品濃度更可高達百分之四十,基本實現(xiàn)樣品的原位檢測。異相多普勒頻移技術(shù)采用可控參考穩(wěn)定頻率,直接比照因顆粒的布朗運動而產(chǎn)生的頻率漂移,綜合考慮被測體系的實時溫度和粘度,較之于傳統(tǒng)的自相關(guān)技術(shù),信號強度高出幾個數(shù)量級。另外,新型“Y”型梯度光纖探針的使用,實現(xiàn)了對樣品的直接測量,*的減少了背景噪音,提高了儀器的分辨率。
Zeta電位測量:
美國麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)以其在激光衍射/散射技術(shù)和顆粒表征方面的獨到見解,經(jīng)過多年的市場調(diào)研和潛心研究,開發(fā)出一代Nanotrac wave II微電場分析技術(shù),融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體,無需傳統(tǒng)的比色皿,一次進樣即可得到準確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù)。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術(shù)相比,Nanotrac wave II采用*的“Y”型光纖探針光路設(shè)計,配置膜電極產(chǎn)生微電場,操作簡單,測量迅速,無需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導致的靜止層,無需外加大功率電場,無需更換分別用于測量粒度和Zeta電位的樣品池,*消除由于空間位阻(不同光學元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質(zhì)的影響,顆粒間多重散射等)帶來的光學信號的損失,結(jié)果準確可靠,重現(xiàn)性好。
測量原理:
粒度測量:動態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理
Zeta電位測量:膜電極設(shè)計與“Y”型探頭形成微電場測量電泳遷移率
分子量測量:水力直徑或德拜曲線
光學系統(tǒng):
3mW780nm半導體固定位置激光器,通過梯度步進光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號,無需校正光路
軟件系統(tǒng):
*的Microtrac FLEX軟件提供強大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數(shù)量,面積及光強分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護,電子簽名和*等。
外部環(huán)境:
電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz
環(huán)境要求:溫度,10-35°C
標準:符合ISO13321,ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008
主要特點:
? 采用的動態(tài)光散射技術(shù),引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法
? 的“Y”型光纖光路系統(tǒng),通過藍寶石測量窗口,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布,在加載電流的情況下,與膜電極對應(yīng)產(chǎn)生微電場,測量同一體系的Zeta電位, 避免樣品交叉污染與濃度變化。
? 的異相多譜勒頻移技術(shù),較之傳統(tǒng)的方法,獲得光信號強度高出幾個數(shù)量級,提高分析結(jié)果的可靠性。
? 的可控參比方法(CRM),能精細分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。
? 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計,減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。
? 的快速傅利葉變換算法(FFT,F(xiàn)ast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時間。
? 膜電極設(shè)計,避免產(chǎn)生熱效應(yīng),能準確測量顆粒電泳速度。
? 無需比色皿,毛細管電泳池或外加電極池,僅需點擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果
? 消除多種空間位阻對散射光信號的干擾,諸如光路中不同光學元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質(zhì)的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。
納米粒度及zeta電位儀 Nanotrac wave II
粒度分析范圍 | 0.3nm-10µm |
重現(xiàn)性 | 誤差≤1% |
濃度范圍 | 100ppb-40%w/v |
檢測角度 | 180° |
分析時間 | 30-120秒 |
準確性 | 全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子 |
測量精度 | 無需預選,依據(jù)實際測量結(jié)果,自動生成單峰/多峰分布結(jié)果 |
理論設(shè)計溫度 | 0-90℃,可以進行程序升溫或降溫 |
兼容性 | 水相和有機相 |
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