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PE-25 Plasma Etch PE-25等離子清洗器

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 溢鑫科創(chuàng)科技集團(tuán)
  • 品牌
  • 型號(hào) PE-25
  • 所在地 國(guó)外
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間 2019/9/30 14:00:40
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 768

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美國(guó)PE公司1980年就開(kāi)始致力于電子行業(yè)使用的Plasma Etch PE-25等離子清洗器設(shè)備研發(fā)及相關(guān)服務(wù), 至今已成為全美*的等離子系統(tǒng)解決方案專(zhuān)業(yè)供應(yīng)商, 其旗下PE系列, BT大尺寸系列,大氣壓系列, PCB系列, Roll-to-Roll系列的發(fā)展歷史已經(jīng)超過(guò)了30年, 廣泛應(yīng)用于各大小型生產(chǎn)及研發(fā)實(shí)驗(yàn)室, 超過(guò)8000套用戶(hù)。

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美國(guó)PE公司1980年就開(kāi)始致力于電子行業(yè)使用的等離子設(shè)備研發(fā)及相關(guān)服務(wù), 至今已成為全美*的等離子系統(tǒng)解決方案專(zhuān)業(yè)供應(yīng)商, 其旗下PE系列, BT大尺寸系列,大氣壓系列, PCB系列, Roll-to-Roll系列的發(fā)展歷史已經(jīng)超過(guò)了30年, 廣泛應(yīng)用于各大小型生產(chǎn)及研發(fā)實(shí)驗(yàn)室, 超過(guò)8000套用戶(hù)。客戶(hù)如美國(guó)宇航局NASA, 波音Boeing, 霍尼韋爾Honeywell, 摩托羅拉Moto, 德國(guó)拜耳Bayer, 飛機(jī)企業(yè)洛克希德馬丁Lockheed-Martin, 及全美各大名校及科研院所如哈佛大學(xué), 麻省理工, 萊斯大學(xué), 橡樹(shù)嶺國(guó)家實(shí)驗(yàn)室等等。

 

   美國(guó)PE公司擁有等離子技術(shù)領(lǐng)域里很好的技術(shù), 憑借著多年研發(fā)和突破性創(chuàng)新, 先已擁有了多項(xiàng)技術(shù)*, 如*的溫控技術(shù)和*的靜電屏蔽技術(shù), 使其等離子設(shè)備能提供的處理效率, 均勻性和可靠性, 其刻蝕清洗效率是市面上其他等離子設(shè)備的三倍以上。

             

 

           

 

PE-25,PE-50,PE-75,PE-100,PE-200臺(tái)式等離子表面處理設(shè)備是專(zhuān)門(mén)針對(duì)于大學(xué),研究機(jī)構(gòu)和工廠研發(fā)設(shè)計(jì)的小批量樣品處理裝置, 性?xún)r(jià)比高,性能*,操作方便。

 

 

Plasma Etch PE-25等離子清洗器優(yōu)勢(shì)如下:

1. 真空腔室均采用航空特種鋁,研究表明采用這種特級(jí)鋁材的腔體材質(zhì)可以微調(diào)每個(gè)等離子體以保證整個(gè)處理過(guò)程的良號(hào)均勻性。性能遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)石英,玻璃或不銹鋼腔室

2. 腔體一體成型,無(wú)焊接縫隙, 具有非常好的耐用性和整體穩(wěn)定性。

3. 電容平行板設(shè)計(jì), 高效均勻的等離子體產(chǎn)生方式。 腔體與電極之間的間隙可到63mm至140mm,可以輕松將大尺寸不規(guī)則實(shí)驗(yàn)樣品放入腔體內(nèi)處理。

4. 操作簡(jiǎn)便, 面板的操作部分,非傳統(tǒng)按鈕旋鈕控制的設(shè)計(jì)使得操作控制更加便捷和避免人為誤操作。一般操作人員在極短的時(shí)間內(nèi)就可以熟練操作,只需要幾分鐘就可上手掌握。

5.  安全保障:在小型設(shè)備中,*引入一鍵急停保護(hù)按鈕,當(dāng)參數(shù)設(shè)置有誤而設(shè)備已經(jīng)啟動(dòng)的時(shí)候,可以快速終止實(shí)驗(yàn),以小程度降低因操作失誤而造成對(duì)樣品的損害。

6. *的粉體收集裝置,可以處理500~1000ML粉體

 

Plasma Etch PE-25等離子清洗器技術(shù)參數(shù)如下:

 

應(yīng)用領(lǐng)域如下:

 

目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于:等離子清洗、刻蝕、改性、灰化、涂鍍和反應(yīng)離子刻蝕,在真空電子、LED、太陽(yáng)能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。

 

 

                                                        

                    


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