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目錄:復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司>>原子層沉積>>Pandora>> PANDORA多功能臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)

多功能臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)
  • 多功能臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌
  • 型號(hào) PANDORA
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市
屬性

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更新時(shí)間:2021-12-17 11:14:13瀏覽次數(shù):941評(píng)價(jià)

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PANDORA 是高度集成的臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng),可擺放在實(shí)驗(yàn)室的任意角落,采用旋轉(zhuǎn)式反應(yīng)腔實(shí)現(xiàn)對(duì)粉末材料的分散,有更高的兼容性。對(duì)于平面樣品,則可快速插入平面反應(yīng)臺(tái),實(shí)現(xiàn)樣品的切換。PANDORA 多功能臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)高度集成的特點(diǎn)提高了使用效率,使用者甚至在安裝的第一天便可以開(kāi)始 ALD 實(shí)驗(yàn)。

PANDORA 多功能臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)ALD 包覆改性方案

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很多人相信,潘多拉的魔盒還埋藏著尚未開(kāi)發(fā)的寶物——希望!


正是基于對(duì)于新技術(shù)應(yīng)用的美好愿景,F(xiàn)orge Nano 開(kāi)發(fā)了 PANDORA 臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng), 這一工具巧妙地將粉末原子層沉積技術(shù)和平面原子層沉積薄膜技術(shù)結(jié)合。使用者可輕易地在粉末與平面樣品之間切換,而不用擔(dān)心影響研究效率。


產(chǎn)品規(guī)格【ALD 包覆改性方案

1. 前驅(qū)體通道:2-6

2. 連續(xù)流 / 靜態(tài)流兼容

3. 反應(yīng)腔:100ml 粉末腔 / 10×10cm 平面

4. 反應(yīng)腔結(jié)構(gòu):旋轉(zhuǎn)式

5. 反應(yīng)腔溫度:最高 200℃

6. 配件:In-situ QCM,等離子發(fā)生器,臭氧發(fā)生器,在線式氣體分析系統(tǒng),沖壓輔助裝置

7. 支持樣品:粉末,纖維,平面樣,器件,藥物


產(chǎn)品特點(diǎn)

PANDORA 是高度集成的臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng),可擺放在實(shí)驗(yàn)室的任意角落,采用旋轉(zhuǎn)式反應(yīng)腔實(shí)現(xiàn)對(duì)粉末材料的分散,有更高的兼容性。對(duì)于平面樣品,則可快速插入平面反應(yīng)臺(tái),實(shí)現(xiàn)樣品的切換。PANDORA 多功能臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)高度集成的特點(diǎn)提高了使用效率,使用者甚至在安裝的第一天便可以開(kāi)始 ALD 實(shí)驗(yàn)。


實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)

PANDORA 也配備了在線分析系統(tǒng),可以對(duì)前驅(qū)體與副產(chǎn)物進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),從而進(jìn)行沉積工藝改良。


In-situ QCM

ALD 是微量的沉積方式,故常規(guī)手段無(wú)法測(cè)量薄膜的質(zhì)量,因此 PANDORA 采用石英微天平可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)材料的質(zhì)量變化,幫助研究者獲得更高質(zhì)量的薄膜。


反應(yīng)觀察窗

研究者可通過(guò)窗口實(shí)時(shí)觀察粉末在腔室中的運(yùn)轉(zhuǎn)情況


符合 cGMP 要求

PANDORA 可以應(yīng)用于藥物的表面改性及包覆,從而提升藥物的物理及化學(xué)性能。


應(yīng)用

對(duì)于學(xué)術(shù)研究,液相法是進(jìn)行粉末表面包覆改性的重要方法,但對(duì)于大多數(shù)研究者而言,尋找合適的工藝以及普適性較高的方案是費(fèi)時(shí)耗力的工作,且液相法會(huì)造成大量的原料浪費(fèi),同時(shí)并不能實(shí)現(xiàn)*均勻的包覆。包覆層會(huì)出現(xiàn)較多的缺陷或顆粒團(tuán)聚,影響材料最終的性能。而對(duì)于敏感性較高的材料,如鋰電電極粉末,液相法可能對(duì)材料性能產(chǎn)生不可逆的影響。


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ALD 是自限制性的薄膜沉積技術(shù),可以在粉末材料表面形成均勻的包覆,即便是孔隙率高的多孔結(jié)構(gòu),ALD 也有較好的均一性。

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