濺射中性粒子質(zhì)譜儀 參考價(jià)：面議
MAXIM 二次離子濺射中性粒子質(zhì)譜儀可分析二次陰、陽離子動(dòng)態(tài)和中性粒子，所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面，應(yīng)用于SIMS和SNMS的光學(xué)采樣...
二次離子質(zhì)譜儀 參考價(jià)：面議
二次離子質(zhì)譜儀適合做多層薄膜的深度分析,可以做元素成像和混合模式掃描，自動(dòng)測(cè)量正、負(fù)和中性粒子。
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀 參考價(jià)：面議
Hiden TOF-qSIMS 飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀工作站設(shè)計(jì)用于多種材料的表面分析和深度剖析應(yīng)用，包括聚合物，藥物，超導(dǎo)體，半導(dǎo)體，合金，光學(xué)和功能涂層以及...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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