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更多>電子基片薄膜應(yīng)力形變分析儀激光波長(zhǎng):650nm±30nm
該儀器采用了主動(dòng)擾動(dòng)抑制技術(shù)、快速應(yīng)力形變分析算法、共光路橫向錯(cuò)位干涉、二維偏振相移等技術(shù),大口徑、大面形、抗高溫空氣擾動(dòng)等關(guān)鍵技術(shù)??蓪?duì)6英寸樣品應(yīng)力和形變進(jìn)行全場(chǎng)、快速、直接測(cè)試。適用于微電子、光電子器件科研生產(chǎn)中電子基片和薄膜的面形分布、應(yīng)力分布和應(yīng)力釋放過(guò)程的測(cè)試,為提高電子元器件質(zhì)量和可靠性提供數(shù)據(jù)支持。
可測(cè)Si、CaAs、InGaAs和Ge等具有反光性能的薄膜或拋光片
基片和薄膜面形測(cè)試
薄膜應(yīng)力分布測(cè)試;
應(yīng)力和形變釋放過(guò)程測(cè)試
變溫基片形變和薄膜應(yīng)力測(cè)試;
具有測(cè)試過(guò)程數(shù)據(jù)記錄功能,輸出結(jié)果類型:三維立體顯示、二維偽彩色顯示、數(shù)據(jù)表格、溫度與應(yīng)力曲線
技術(shù)參數(shù):
測(cè)試樣片尺寸:2~6英寸
激光波長(zhǎng):650nm±30nm
激光功率:≥15mW
樣品溫控范圍:室溫~200℃
溫度均勻性:±2%±2℃
溫度控制精度:±2%±1℃
溫度顯示分辨率:0.1℃
曲率半徑測(cè)試范圍:∣R∣≥8m
曲率半徑測(cè)試精度:5%
應(yīng)力測(cè)量范圍:50MPa~1GPa
應(yīng)力重復(fù)測(cè)量精度:±10%±10MPa
應(yīng)力測(cè)量顯示分辨率:10MPa
測(cè)試時(shí)間:≤3min/片
電源:AC 220(1±10%)V,50(1±5%)Hz
功耗:≤350W
結(jié)構(gòu)特征:臺(tái)式
外形尺寸(W×H×D):≤520mm×630mm×850mm
重量:約80kg
3052型紅外氣體分析儀
紅外氣體分析儀適用于常量、微量的二氧化硫分析儀、一氧化碳分析儀、二氧化碳分析儀、甲烷分析儀等氣體的分析,全量程覆蓋,包括0-100ppm,0-1000ppm,0-1%,0-10%,0-100%
標(biāo)準(zhǔn)3U機(jī)箱,能安裝在成套設(shè)備中
大屏幕LCD顯示,全中文菜單操作,且有操作提示功能,操作簡(jiǎn)單、高效
標(biāo)準(zhǔn)RS232數(shù)字通訊功能,可直接與電腦或DCS連接 ,可選配配有標(biāo)準(zhǔn)上位機(jī)軟件
輸出為同步、隔離的(0/2/4-20)mA及(0/0.5/1-5)V信號(hào)可選,默認(rèn)為(4-20)mA和(1-5)V,電流輸出負(fù)載≤400Ω,電壓輸出負(fù)載≥250Ω
具有故障、B警指示與提示功能
可存儲(chǔ)3000條完整記錄,峰值可查詢
可選配微型打印機(jī)
工作原理:
該紅外氣體分析儀可用于二氧化硫分析儀、二氧化碳分析儀、一氧化碳分析儀、甲烷分析儀等。屬于電調(diào)制非分光式(NDIR)紅外線氣體分析器,其工作原理是基于不同種類的氣體對(duì)紅外線的選擇性吸收效率不同。儀器采用單光源、單管隔半氣室及檢測(cè)器,分析精度高、穩(wěn)定性好。
技術(shù)參數(shù):
檢測(cè)原理:紅外線
檢測(cè)方式:泵吸式
重復(fù)性: ≤±1%
零點(diǎn)漂移:≤±1%F.S/15d
量程漂移:≤±1%F.S/15d
線性誤差:≤±1%F.S
分辨率:0.01%F.S
響應(yīng)時(shí)間:T90≤15s
被測(cè)氣體的流量:0.5~3L/min
使用環(huán)境溫度:-10~55℃;相對(duì)濕度:≤90%
電源:220V±10% ;50±0.5Hz 150W
測(cè)量值輸出:0~20mA; 0~10mV; 4~20mA;1~5V(按用戶要求提供,在*大負(fù)載600Ω內(nèi)不受負(fù)載影響,數(shù)字式顯示。)
應(yīng)用領(lǐng)域:
紅外氣體分析儀,高精度紅外氣體分析儀,北京紅外氣體分析儀,紅外氣體分析儀,一氧化碳分析儀,二氧化硫分析儀,二氧化碳分析儀,甲烷分析儀,碳?xì)浞治鰞x,四氯化碳分析儀,六氟化硫分析儀,氨氣分析儀
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慕尼黑上海分析生化展(analytica China 2024)
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