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KRi 射頻離子源應用于車載攝像頭鏡片鍍膜工藝, 實現(xiàn)車載鏡頭減反, 塑膠鏡片增透
車載鏡頭的鍍膜非常重要, 鍍膜的核心用途就是增加透光率. xian進的鍍膜技術可以大限度地減少反光, 通過減少光在折射界面的反射而增加光線的透過率, 保證通光率, 從而保證鏡頭的更佳畫質. 在車載攝像頭鏡片加工鍍膜環(huán)節(jié), 鍍膜機通過加裝上海伯東美國 KRi 射頻離子源對于加強膜層致密性, 實現(xiàn)車載鏡頭減反, 塑膠鏡片增透, 明顯提升工藝效果.
KRi 離子源原子水平上在材料表面沉積薄膜
KRi 離子源安裝于精密光學鍍膜機
對智能型手機鏡頭, 車用鏡頭, VR 虛擬現(xiàn)實鏡頭的塑膠光學鏡頭鍍膜, 通過使用射頻離子源 RFICP 325 成功鍍膜于塑膠基板并且通過 1,500 小時高溫高濕嚴苛環(huán)境測試
鍍膜材料: 高折射率材料 Ti2O5 (氧化鈦）, 低折射率材料 SiO2 (氧化硅）
鍍膜設備: 1米7 的大型蒸鍍設備, 配置美國 KRI 射頻離子源 RFICP 325
測試環(huán)境: 80C / 80% 濕度, 85C / 95% 濕度, 連續(xù) 1,500 小時高溫高濕嚴苛環(huán)境測試
美國 KRi RFICP 射頻離子源技術參數：
型號 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 20 cm Φ | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 | ||||
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產品, 協(xié)助客戶生產研發(fā)高質量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發(fā)展已取得多項專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.
若您需要進一步的了解 KRi 射頻離子源, 請參考以下聯(lián)絡方式
上海伯東: 羅先生
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