直播推薦
更多>企業(yè)動態(tài)
更多>- 北京華測試驗儀器有限公司配合某檢測機構搭建的絕緣材料實驗室
- 生態(tài)環(huán)境局項目案例:便攜式多參數(shù)水質(zhì)測定儀的應用經(jīng)驗借鑒
- 【客戶案例】生態(tài)環(huán)境局的法寶 —— 便攜式多參數(shù)水質(zhì)分析儀的生態(tài)價值
- 佳化化學(茂名)有限公司采購佳航的卡爾費休水分測定儀 JH-V3
- 吉林省力盛制藥有限公司采購佳航的顯微熔點儀JHX-5Plus
- 山東金城醫(yī)藥有限公司采購佳航的全自動密度計Digipol-D50
- 祝賀2023年全國機械行業(yè)職業(yè)技能競賽―“三豐杯” 在浙江杭州順利舉行
- 2023年河北省全省無損檢測技能比武暨能力對比 完滿收關
推薦展會
更多>KRi 離子源應用于藍玻璃 AR 工藝
配備 800萬或以上像素的手機都基本內(nèi)嵌藍玻璃濾光片的攝像頭. 藍玻璃濾光片通過 AR Coating 的鍍膜, 可以增加透光率和反射紅外光. 光線在透過不同介質(zhì)時會產(chǎn)生折射和反射, 當加上單面 AR Coating 后, 濾光片會提升3~5%的透光率, 讓圖像更清晰且讓濾光片不容易起霧. 上海伯東協(xié)助某從事光學玻璃鍍膜機生產(chǎn)的客戶, 在光學鏡頭材料藍玻璃 AR工藝方面實現(xiàn)技術突破!
經(jīng)過推薦客戶采用光學鍍膜機加裝美國進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 在離子清洗, 輔助沉積時, 提高藍玻璃的薄膜 / 基層物的附著性和硬度, 減少吸收殘余氣體的污染物和薄膜應力. 上海伯東美國 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 利用高均勻性的離子分布及高穩(wěn)定的離子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸鍍設備, 解決了在藍玻璃上無法達到高質(zhì)量鍍膜要求的問題, 同時也提升了企業(yè)生產(chǎn)效能.
應用方向: 離子清洗, 輔助沉積
應用領域: 光學鏡頭
薄膜工藝: 藍玻璃鍍 AR增透膜
產(chǎn)品類別: 濾光片
鍍膜設備: 1米7 的大型蒸鍍設備, 配置美國 KRi 射頻離子源 RFICP 380
測試環(huán)境: 80C / 80% 濕度, 85C / 95% 濕度, 連續(xù) 1,500 小時高溫高濕嚴苛環(huán)境測試
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
美國 KRi RFICP 射頻離子源技術參數(shù):
型號 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 20 cm Φ | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.
若您需要進一步的了解 KRi 射頻離子源, 請參考以下聯(lián)絡方式
上海伯東: 羅先生
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,應在授權范圍內(nèi)使用,并注明“來源:儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關權利。
第62屆中國高等教育博覽會
展會城市:重慶市展會時間:2024-11-15