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光纖激光切割機(jī)的激光器基本構(gòu)成

來源:深圳市君輝電子有限公司   2021年03月23日 14:44  


一個常規(guī)的光纖激光切割機(jī)激光器包括三部分:工作物質(zhì),泵浦源和光學(xué)諧振腔。


1. 工作物質(zhì)工作物質(zhì)是產(chǎn)生激光的物質(zhì)基礎(chǔ),是激光器的核心部分,是用來實(shí)現(xiàn)粒子數(shù)反轉(zhuǎn)并產(chǎn)生受激輻射的物質(zhì)體系.工作物質(zhì)的分類方式通常有兩種:一種是根據(jù)工作物質(zhì)的存在形態(tài)分類,工作物質(zhì)可以分為氣體、固體、液體及半導(dǎo)體等;另一種是根據(jù)速率方程理論分析產(chǎn)生激光的過程所適用的能級結(jié)構(gòu),可以分為三能級系統(tǒng)、四能級系統(tǒng)等。




在氣體激光器中產(chǎn)生光纖激光切割機(jī)激光的粒子為氣體分子或原子,在固體激光器中,摻有少量過渡金屬離子或稀土離子的晶體或玻璃為工作物質(zhì),摻雜離子為工作粒子,經(jīng)外界能量泵浦產(chǎn)生粒子數(shù)反轉(zhuǎn)后可產(chǎn)生受激輻射,晶體和玻璃為基質(zhì)材料。


液體激光器其工作物質(zhì)的存在形態(tài)為液體,常見的有染料激光器,其工作物質(zhì)為染料溶解于溶劑中組成的溶液,染料分子為工作粒子,溶劑相當(dāng)于基質(zhì)。半導(dǎo)體激光器的工作物質(zhì)為半導(dǎo)體,雖然半導(dǎo)體為固體,但是由于半導(dǎo)體激光器粒子數(shù)反轉(zhuǎn)的形成機(jī)理與普通固體激光器有本質(zhì)的不同,所以一般不將二者歸為一類。




2. 泵浦源是為實(shí)現(xiàn)粒子數(shù)反轉(zhuǎn)提供能量的裝置。根據(jù)激勵時利用的能量形式,泵浦方式有放電激勵、光激勵、熱能激勵、化學(xué)能激勵等。


氣體放電激勵是氣體激光器常用的一種激勵方式,其激勵機(jī)理是利用在高電壓下,氣體分子電離導(dǎo)電,與此同時氣體分子(或原子、離子)與被電場加速的電子碰撞,吸收電子能量后躍遷到高能級,形成粒子數(shù)反轉(zhuǎn);除此以外,還可以利用電子槍產(chǎn)生的高速電子去泵浦工作物質(zhì),使之躍遷到高能級稱為電子束激勵;半導(dǎo)體激光器靠注入電流泵浦,稱為注入式泵浦。


光激勵是利用光照射工作物質(zhì),光纖激光切割機(jī)工作物質(zhì)吸收光能后產(chǎn)生粒子數(shù)反轉(zhuǎn)。光激勵的光源可采用高效率、高強(qiáng)度的發(fā)光燈,太陽能或激光。固體激光器和液體激光器常用光激勵方式。


熱能激勵是用高溫加熱的方式使高能級上氣體粒子數(shù)增多,然后突然降低氣體溫度,因?yàn)楦叩湍芗墴岢谠r間不同,低能級弛豫時間短,高能級弛豫時間長,從而實(shí)現(xiàn)高低能級間粒子數(shù)反轉(zhuǎn)。


化學(xué)能激勵利用化學(xué)反應(yīng)過程中釋放的化學(xué)能將粒子泵浦到上能級,建立粒子數(shù)反轉(zhuǎn)?;瘜W(xué)激勵不像前述的放電激勵、光激勵和熱激勵在工作時,需要用外界能源,因此在某些特殊的缺乏電源的地方,化學(xué)激光器可以發(fā)揮其光纖激光切割機(jī)特長。




3. 光學(xué)諧振腔光學(xué)諧振腔(簡稱光腔)是產(chǎn)生激光的外在條件,是激光器的重要組成部分。簡單的光學(xué)諧振腔是在激活介質(zhì)兩端恰當(dāng)放置兩個鍍有高反射率材料的反射鏡構(gòu)成。激光所具有的髙方向性、高單色性、高相干性和高亮度的特點(diǎn),光纖激光切割機(jī)是與光學(xué)諧振腔密不可分的。


光學(xué)諧振腔具有正反饋和選模的雙重作用。所謂正反饋,即初始光強(qiáng)在反射鏡間往返傳播,等效于增加激活介質(zhì)的長度,終可保證得到一個確定大小的光強(qiáng)。所謂選模,即控制腔內(nèi)振蕩光束的特性,使腔內(nèi)建立的光纖激光切割機(jī)振蕩被限制在腔所決定的少數(shù)本征模式中,從而提高單個模式內(nèi)的光子數(shù),獲得單色性好、方向性好的強(qiáng)相干光。


激光是一種電磁波,激光器的光學(xué)諧振腔將該電磁波約束在空間的有限范圍內(nèi),根據(jù) Maxwell 電磁場理論,在一定的空間范圍內(nèi)只能存在系列分裂的電進(jìn)波的本征態(tài),這些本征態(tài)為光學(xué)諧振腔的模式,激光模式也就是光腔內(nèi)可以區(qū)分的電迸波本征態(tài),由腔的結(jié)構(gòu)決定。

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