C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
主要用途
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。
（1） 這是一臺(tái)雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī)；
（2） 這臺(tái)機(jī)器又能完成普通光刻機(jī)的任何工作；
（3） 同時(shí)又是一臺(tái)檢查雙面對(duì)準(zhǔn)精度的檢查儀。
主要性能指標(biāo)
（1） 高均勻性LED曝光頭。
光強(qiáng)≤20mw；曝光面積：100mm×100mm
曝光不均勻性≤3%
曝光強(qiáng)度≥30mW/cm2可調(diào)
紫外光束角≤3°
紫外光中心波長365nm、404nm、435nm可選
紫外光源壽命：≥2萬小時(shí)
電子快門精準(zhǔn)控制
對(duì)準(zhǔn)精度1微米、曝光精度1微米、套刻精度1微米
（2） 觀察系統(tǒng)為上下各兩個(gè)單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過視屏線連接計(jì)算機(jī)到液晶顯視屏上。
a、 單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡；
b、 CCD攝像機(jī)靶面對(duì)角線尺寸為：1/3″,6mm；
c、 采用19″液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍；
d、 觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：0.7×57≈40倍（最小倍數(shù)）
4.5×57≈256(倍數(shù)）或(91倍～570倍）
e、 右表板上有一視屏轉(zhuǎn)換開關(guān)：向左為下二個(gè)CCD，向右為上二個(gè)CCD。
（3） 計(jì)算機(jī)硬軟件系統(tǒng)：
a、鼠標(biāo)單擊“開始對(duì)準(zhǔn)”，能將監(jiān)視屏上的圖形記憶下來，并處理成透明的，以便對(duì)新進(jìn)入的圖形進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)；
b、鼠標(biāo)雙擊左面或右面圖形，就分別全屏顯示左或右面圖形。
（4） 非常特殊的板架裝置：
a、該裝置能分別裝入152×152板架，對(duì)版進(jìn)行真空吸附；
b、該裝置安裝在機(jī)座上，能圍繞A點(diǎn)作翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，相對(duì)于承片臺(tái)而言作上下翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，以便于上下版和上下片；
c、該裝置來回反復(fù)翻轉(zhuǎn)，回到承片臺(tái)上平面的位置，重復(fù)精度為≤±1.5µ；
d、該裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差之功能，保證版下平面與片上平面之良好接觸，以便提高曝光質(zhì)量。
（5） 承片臺(tái)調(diào)整裝置：
a、 配備有Φ75、Φ100承片臺(tái)各一個(gè)，這二種承片臺(tái)有二個(gè)長方孔，下面二個(gè)CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面；
b、 承片臺(tái)能作X、Y、Z、θ運(yùn)動(dòng)，X、Y、Z可作±5mm運(yùn)動(dòng)，θ運(yùn)動(dòng)為±5°；
c、 承片臺(tái)密著環(huán)相對(duì)于版，能實(shí)現(xiàn)“真空密著”：
真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸；
真空密著力≤-0.05Mpa～-0.02Mpa為軟接觸；
真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸；
