C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機
主要用途
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
由于本機找平機構(gòu)，找平力小、使本機適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。
主要性能指標(biāo)
1、有三種版夾盤供選擇，能真空吸附5"×5"或4"×4"方形掩版（2.5"×2.5"），版的厚度無特殊要求1.5~3mm皆可。分別用于φ4、φ3、φ2基片的曝光。基片厚度0.1~1mm都可以。
2、曝光
(1)光源采用GCQ350型超高壓球形汞燈。
(2)照明范圍：≤φ110mm
(3)光的不均勻性：φ100mm范圍內(nèi)≤±4%
(4)可使用的波長：G線、H線、I線的組合。（即3500~5000埃）
(5)成像面照明：使用UV—A型表測量，光照度≤15毫瓦/厘米2左右（采用3650測頭測量），光學(xué)結(jié)構(gòu)原理為16面反射式多點光源。
3、采用進口時間繼電器（該繼電器可從0.1秒~999.9秒內(nèi)任意設(shè)定）控制“真空快門”。動作準(zhǔn)確可靠。
4、該機為雙面接觸式曝光機，該機特制的翻版機構(gòu)，能消除基片楔形誤差，保證上下二塊掩膜版對基片上下兩面良好的接觸，從而保證基片上下兩面的曝光質(zhì)量。
5、分辨率估量：如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規(guī)定、環(huán)境、溫度、濕度以及房間凈化得到嚴(yán)格控制，采用進口“正性”光刻膠，且勻膠厚度和均勻度也得到嚴(yán)格控制的話，本機曝光最小分辨可達0.002mm，建議使用在≥0.003mm以上。
6、對準(zhǔn)：
A、 兩個單視場變倍顯微鏡加二個CCD攝像機加14"顯示器。
1）二個單視場變倍顯微鏡的變倍范圍0.7X~4.5X.
2）二個CCD攝像頭：平面對角線尺為1/3"。
3）采用19"液晶顯示器，總放大倍數(shù)為0.7×42~4.5×42=30倍~189倍。
B、對準(zhǔn)臺
首先真空吸附下掩版（注意掩版四個邊，平行于真空吸下掩版的裝置四個邊），然后將上掩版放在下掩版上，轉(zhuǎn)動曝光頭位置，使兩個單視場顯微鏡對準(zhǔn)上掩版，調(diào)好左右兩個顯微鏡的焦距，從監(jiān)視屏上看清兩個像。調(diào)整下掩版X、Y和Q轉(zhuǎn)動，使上掩版上的圖像或標(biāo)記線，顯視到顯示器屏的左右分開的中間位置，然后真空吸附上掩版。上掩版一旦吸附后，再也不能移動。通過下掩版進行X、Y和Q移動后，實現(xiàn)上下掩版的對準(zhǔn)工作。
上下掩版的對準(zhǔn)精度≤±0.001mm。
該機的主要優(yōu)點是，有一個上掩版相對于下掩版的翻轉(zhuǎn)機構(gòu)，該機構(gòu)翻轉(zhuǎn)角度≥90o，甚至可達180o，不僅便于上下基片，而且能保證上下掩版對應(yīng)基片上下面的良好接觸。（能補償基片的楔形誤差），又能保證上下掩版對準(zhǔn)了的圖形重合到原來位置，其誤差≤5μm。
這一點很重要，也就是說上下掩版對準(zhǔn)后，不管怎么翻動，怎樣上下基片，上下掩版的圖形仍然是對準(zhǔn)的！這對大批量生產(chǎn)的廠家來說很重要，只要上下掩版對準(zhǔn)后，你就可以不斷地對基片進行雙面曝光，曝若干片以后，你如果想觀察上下掩版是否仍然對準(zhǔn)的，你只要轉(zhuǎn)動曝光頭，使顯微鏡對準(zhǔn)版，你就能在顯示器上看見，兩個版的對準(zhǔn)情況。
X、Y調(diào)整范圍±4mm
Q轉(zhuǎn)角≤±5o
7、設(shè)備所需能源：
主機電源220V 50HZ 功耗≤1.5KW
配有一臺真空泵，真空泵電源220V
8、尺寸和重量：
尺寸：700（長）×700（寬）×960（高）
重量≤100kg
機體放在專用工作臺上
工作臺 750（長）×720（寬）×640（高） 高度可調(diào)范圍0~30mm
重量70kg (工作臺后側(cè)裝有電氣部分)
總重量≤170kg
9、雙面對準(zhǔn)曝光機的組成
A、 主機
1）主機（含機體和工作臺）
2）機體上安裝二臺單視場可變倍數(shù)顯微鏡，二臺CCD攝像頭，一臺19"顯示器，一套很有特色的上下翻版裝置，二個16面反射鏡式多點光源曝光頭。
B、 附件：（用戶提出后，可配以下附件）
1）3"上下掩版吸版裝置
2）3"上下翻板裝置
3）一個350瓦高壓球形汞燈
4）真空泵一臺
5）?8（外徑）高壓用塑料管15m（用于真空管）一根
