可與Theta光學(xué)接觸角儀聯(lián)用的3D形貌模塊----涂層和表面研發(fā)邁入新階段???
可與Attension Theta光學(xué)接觸角儀聯(lián)用的的3D形貌模塊是*款能夠同時(shí)提供3D表面粗糙度和接觸角信息，從而實(shí)現(xiàn)原位測(cè)量這兩個(gè)參數(shù)的產(chǎn)品。OneAttension軟件能夠基于測(cè)量結(jié)果自動(dòng)計(jì)算粗糙度校正后的真實(shí)接觸角值和表面自由能。儀器操作簡(jiǎn)單，測(cè)量快速。通過(guò)區(qū)分表面化學(xué)性質(zhì)、涂層配方、表面改性所引起的粗糙度對(duì)表面性質(zhì)的影響，可工業(yè)研發(fā)進(jìn)程邁入一個(gè)全新的水平。
??應(yīng)用
??許多用于優(yōu)化潤(rùn)濕性和粘附性能的表面改性和涂層技術(shù)都會(huì)對(duì)材料表面化學(xué)和粗糙度造成一定的影響。了解這兩個(gè)因素對(duì)潤(rùn)濕性影響的機(jī)理，可使之成為在產(chǎn)品研發(fā)過(guò)程和質(zhì)量控制中的有力工具。粗糙度修正的接觸角也能夠用于計(jì)算粗糙表面上的基本表面自由能。3D形貌模塊可以用于研究微觀尺度的粗糙度，許多應(yīng)用中都需要考慮這一因素，例如：????
??建筑與建筑材料??
建筑材料的涂層和表面處理對(duì)增強(qiáng)材料的外觀和耐久性非常重要。涂料和膠合板等不同類型涂層的粘附性取決于它們的表面性質(zhì)。*，表面形貌和表面化學(xué)都對(duì)粘附性和潤(rùn)濕性有影響。Theta光學(xué)接觸角儀可用于評(píng)估表面處理質(zhì)量及其對(duì)潤(rùn)濕能力的影響。
生物復(fù)合材料的相容性
金屬、陶瓷、聚合物等多種材料都可作為醫(yī)療領(lǐng)域中的植體。植體表面通常通過(guò)機(jī)械粗糙化和化學(xué)處理來(lái)進(jìn)行改性，從而提高其與周?chē)闹鹘M織的生物相容性。區(qū)分化學(xué)處理和機(jī)械處理對(duì)水接觸角值的影響，對(duì)植體的研發(fā)和質(zhì)量控制意義重大。更多詳情請(qǐng)參考
紙張涂層
優(yōu)化紙張表面的潤(rùn)濕性和粘附性，對(duì)確保如在印刷和包裝等行業(yè)的各種轉(zhuǎn)換和精加工操作的質(zhì)量和運(yùn)行能力起到至關(guān)重要的作用。如用顏料涂層對(duì)原紙進(jìn)行涂層，用以提供一個(gè)可用于打印的光滑表面，或者在包裝應(yīng)用中，通過(guò)蠟涂層來(lái)保證阻擋氣味和氣體傳輸。紙張表面通常所具有的微米尺度的粗糙度影響著潤(rùn)濕性和粘附力及其表面化學(xué)應(yīng)用。因此，了解粗糙度對(duì)潤(rùn)濕性的影響可簡(jiǎn)化涂料配方和優(yōu)化表面處理工藝，從而更好地理解質(zhì)量問(wèn)題的根源所在。
??技術(shù)與實(shí)驗(yàn)
??潤(rùn)濕性通常由接觸角實(shí)驗(yàn)來(lái)研究，由應(yīng)用于理想表面的的楊氏方程定義。表面自由能的理論也是基于使用楊氏接觸角來(lái)進(jìn)行計(jì)算。通常，表面被假設(shè)成化學(xué)性質(zhì)均勻、形貌均一、光滑的平面，然而真實(shí)表面并非如此。表面粗糙度是可以增強(qiáng)潤(rùn)濕行為和影響粘附力行為的一種處理方式。??
可與Attension Theta光學(xué)接觸角儀聯(lián)用的的3D形貌模塊，使用戶能夠定義楊氏接觸角和表面自由能測(cè)量，并根據(jù)Wenzel理論對(duì)粗糙表面的測(cè)量。粗糙度修正的接觸角能夠使用戶了解粗糙度和表面化學(xué)組成分別對(duì)表面潤(rùn)濕性的影響。使用高準(zhǔn)確度的XYZ自動(dòng)樣品臺(tái)，用戶能夠同時(shí)原位進(jìn)行測(cè)量并繪制完整的表面形貌圖，從而研究表面均勻性和清潔度。
用戶使用3D形貌模塊可以得到如下參數(shù)：
-θc，粗糙度修正的接觸角
-3D和2D形貌參數(shù)和視圖
3D 粗糙度圖像和參數(shù)： Sdr, Sa 和Sq.
2D 粗糙度圖像和參數(shù)： Ra, Rq, Rp, Rv, Rz 和 R10z
技術(shù)指標(biāo)
硬件
尺寸: 7 cm x 16.5 cm x 11.5 cm
重量: 2.6 kg
電壓: 100…240 VAC
頻率: 50-60 Hz
??系統(tǒng)要求??
計(jì)算機(jī)：2G處理器，2G內(nèi)存，40G硬盤(pán)（20G空閑），1024x768分辨率，2個(gè)USB口，1個(gè)火線接口或1個(gè)PCI插槽；
推薦使用防震臺(tái)或大理石實(shí)驗(yàn)臺(tái)；
要求配置：XYZ全自動(dòng)樣品臺(tái)；
其他指標(biāo)
方法名稱：基于條紋投影相移原理
XY像素大小: 1.1 μm x 1.1 μm
Z方向測(cè)量范圍: 1 μm – 60 μm
橫向采樣: 1.41 mm x 1.06 mm (XY). (圖像粘貼選項(xiàng)： 4.2 mm x 4.2 mm)
工作距離:18 mm
樣品臺(tái)上的zui大樣品尺寸: Unlimited x 180 mm x 22 mm (L x W x H)
成像選項(xiàng): 光學(xué)圖像, 2D粗糙度圖, 3 D粗糙度圖
每個(gè)實(shí)驗(yàn)的測(cè)量時(shí)間：5-30 s (1280 x 960，實(shí)驗(yàn)點(diǎn))
分析參數(shù)(ISO 4287, ISO 4288):
r (Wenzel 方程)
θc, 粗糙度校正接觸角/Wenzel接觸角
Sdr (%), Sa (um), Sq (um)
水平、垂直和 2D 線形區(qū)域的Ra, Rq,
Rp, Rv, Rz, R10z
波紋過(guò)濾：高斯高通濾波器（ISO 11562）
樣品要求/局限性：需要漫反射樣品
