測(cè)試速度超快的微納米力學(xué)測(cè)試平臺(tái)
Nano Indenter® G200系統(tǒng)專為各種材料的表征和開發(fā)過程中進(jìn)行納米級(jí)測(cè)量而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)是一個(gè)可升級(jí)，可擴(kuò)展且經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的平臺(tái)，全自動(dòng)硬度測(cè)量可應(yīng)用于質(zhì)量控制和實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。
產(chǎn)品描述
Nano Indenter® G200系統(tǒng)是一種準(zhǔn)確，靈活，使用方便的納米級(jí)機(jī)械測(cè)試儀器。G200測(cè)量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個(gè)數(shù)量級(jí)的形變測(cè)量。該系統(tǒng)還可以測(cè)量聚合物，凝膠和生物組織的復(fù)數(shù)模量以及薄金屬膜的蠕變響應(yīng)（應(yīng)變率靈敏度）。模塊化選項(xiàng)可適用于各種應(yīng)用：頻率特定測(cè)試，定量刮擦和磨損測(cè)試，集成的基于探頭的成像，高溫納米壓痕測(cè)試，擴(kuò)展負(fù)載容量高達(dá)10N和自定義測(cè)試。
主要功能
電磁驅(qū)動(dòng)可實(shí)現(xiàn)高動(dòng)態(tài)范圍下力和位移測(cè)量
用于成像劃痕，高溫納米壓痕測(cè)量和動(dòng)態(tài)測(cè)試的模塊化選項(xiàng)
直觀的界面，用于快速測(cè)試設(shè)置；只需幾個(gè)鼠標(biāo)點(diǎn)擊即可更改測(cè)試參數(shù)
實(shí)時(shí)實(shí)驗(yàn)控制，簡(jiǎn)便的測(cè)試協(xié)議開發(fā)和精確的熱漂移補(bǔ)償
屢獲殊榮的高速“快速測(cè)試”選項(xiàng)，用于測(cè)量硬度和模量
多功能成像功能，測(cè)量掃描和流程化測(cè)試方法，幫助快速得到結(jié)果
簡(jiǎn)單快捷地確定壓頭面積函數(shù)和載荷框架剛度
主要應(yīng)用
高速硬度和模量測(cè)量
界面附著力測(cè)量
斷裂韌性測(cè)量
粘彈性測(cè)量
掃描探針顯微鏡（3D成像）
耐磨損和耐刮擦
高溫納米壓痕
工業(yè)應(yīng)用
主要性能
增強(qiáng)的載荷加載系統(tǒng)
增強(qiáng)的納米劃痕測(cè)試
更強(qiáng)化的微摩擦磨損測(cè)試功能
粘彈性材料性能測(cè)量功能－DMA 功能
增強(qiáng)的恒應(yīng)變速率測(cè)試功能
的連續(xù)剛度測(cè)量功能
增強(qiáng)的原位納米力學(xué)測(cè)試功能
Survey Scanning圖像功能
超高精度成像定位功能
的接觸剛度成像功能
的革命性的超快壓痕技術(shù)
從MTS公司到安捷倫公司再到KLA公司
– KLA是較大的半導(dǎo)體在線測(cè)量領(lǐng)域的公司。
– 在 1983 年發(fā)明了一臺(tái)的納米壓痕儀。
– 我們擁有世界上及國(guó)內(nèi)相當(dāng)大的納米壓痕儀客戶群。
– 是符合 ISO-14577、ASTM-E2546-07、GB/T22458-2008、GB/25898-2010 等國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的納米壓痕儀供貨商。
– 大且靈活的加載范圍——適用于各種材料和硬質(zhì)薄膜及涂層檢測(cè)。
– 大的壓頭移動(dòng)范圍——適用于各種較厚薄膜和涂層、粗糙度較大的樣品。
– 的位移探測(cè)精度。
– 的技術(shù)——連續(xù)剛度測(cè)量模塊。
– 的恒應(yīng)變加載模式。
– 的金剛石壓頭制造工藝。
– 整個(gè)測(cè)量過程中熱飄移效應(yīng)實(shí)時(shí)扣除——KLA的技術(shù)。
– 功能強(qiáng)大的 NanoSuite 6 控制軟件——行業(yè)中的較為強(qiáng)大的控制軟件。
– 真正的原位成像和原位納米力學(xué)測(cè)試功能。
– 性能的防震抗噪系統(tǒng)。
– 全自動(dòng)控制的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)。
– KLA在中國(guó)設(shè)置了當(dāng)?shù)氐木S修和培訓(xùn)中心。
– 強(qiáng)大的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。
– 擁有國(guó)內(nèi)領(lǐng)域較大的客戶群。
