ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是快速、準(zhǔn)確測(cè)定銅、鋼、鑄鐵、合金、鈦、鎳、鉬、鋯、陶瓷和其它無(wú)機(jī)材料中氧、氮、氫含量的分析儀器。

>> 氧氮?dú)浞治鰞x儀器介紹

ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是ELTRA公司在新世紀(jì)推出的當(dāng)今世界水平的高技術(shù)氧氮?dú)浞治鰞x。該儀器配置有16位微處理器和兩個(gè)獨(dú)立的分別檢測(cè)高氧和低氧的紅外檢測(cè)池。氮和氫通過(guò)雙重范圍的熱導(dǎo)檢測(cè)池測(cè)量。分析過(guò)程中可自動(dòng)實(shí)現(xiàn)從低范圍到高范圍的切換。樣品在高功率脈沖爐的石墨坩堝中加熱可達(dá)3000℃以上高溫，脈沖爐采用循環(huán)水冷卻。該儀器具有靈敏度高、性能好、測(cè)量范圍寬和分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等優(yōu)點(diǎn)。ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是為快速、準(zhǔn)確測(cè)定銅、鋼、鑄鐵、合金、鈦、鎳、鉬、鋯、陶瓷和其它無(wú)機(jī)材料中氧、氮、氫的含量而專門(mén)設(shè)計(jì)制造的。

>> 氧氮?dú)浞治鰞x儀器參數(shù)

氧氮?dú)浞治鰞x測(cè)量范圍： ON 低氧0.0－300ppm OH 低氧0.0－300ppm
              高氧0.0－2%        高氧0.0－2%
              低氮0.0―300ppm    低氫0.0－50ppm
              高氮0.0－2%        高氫0.0－1000ppm
氧氮?dú)浞治鰞x靈 敏 度： 氧0.01ppm；氮0.1ppm；氫0.01ppm
氧氮?dú)浞治鰞x精 密 度： ON 低氧0.1ppm或1%（相對(duì)偏差） OH 低氧0.1ppm或1%（相對(duì)偏差）
              高氧2ppm或1%（相對(duì)偏差）      高氧2ppm或1%（相對(duì)偏差）
              低氮0.1ppm或1%（相對(duì)偏差）    低氫0.05ppm或1%（相對(duì)偏差）
              高氮 0.2ppm或1%（相對(duì)偏差）   高氫0.5ppm或1%（相對(duì)偏差）
分析方法： 氧：紅外吸收法；氮、氫：熱導(dǎo)法
樣品稱量： 一般約1g
分析時(shí)間： 約2分鐘

>> 氧氮?dú)浞治鰞x其他參數(shù)

化學(xué)試劑：高氯酸鎂；堿石棉；舒茨試劑；氧化銅
爐子溫度：3000℃，8kw
氣    體：氮?dú)猓?9.9995%；氦氣：99.995%，2－4 bar （0.2－0.4Mpa）
壓縮空氣：4－6 bar （0.4－0.6Mpa）
儀器接口：天平串口，計(jì)算機(jī)串口；打印機(jī)并口
電    源：380VAC±10% 50/60Hz（3相）
質(zhì)    量：140kg
尺    寸：55×80×60cm（W×H×D）
電子天平：0.1mg
計(jì)算機(jī)、監(jiān)視器和打印機(jī)可根據(jù)分析器和用戶需要配置

>> 氧氮?dú)浞治鰞x儀器特點(diǎn)

1．用同一臺(tái)儀器分析固體無(wú)機(jī)物中的氧、氮、氫。
2．采用熱抽取分析技術(shù)，通過(guò)在低于熔點(diǎn)的溫度下加熱樣品，測(cè)定樣品中的殘留氫。
3．脈沖加熱可達(dá)3000℃以上高溫，適用于金屬和陶瓷樣品分析。
4．借助于新設(shè)計(jì)的進(jìn)樣裝置，粒狀和屑狀樣品可直接加入到脈沖爐中，無(wú)須用錫箔或鎳箔包裹。
5．設(shè)有多種分析模式，可分別測(cè)定樣品中總氧量和總氮量以及其中各種氧化物分氧量和各種氮化物分氮量。