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PIPS II 精密離子減薄儀

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PIPS II 精密離子減薄儀包含了 WhisperLok®,能對減薄樣品進行準確定位。10英寸觸摸屏簡單易用,提高對減薄區(qū)域的精度控制和減薄過程的可重復性。

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PIPS II 精密離子減薄儀




設(shè)備簡介:

一代PIPS™離子減薄系統(tǒng)樹立了透射電鏡(TEM)制樣的行業(yè)標準已超20年,而全新一代PIPS II 精密離子減薄儀基于一代PIPS 有了根本性的升級。

PIPS II 精密離子減薄儀包含了 WhisperLok®,能對減薄樣品進行準確定位。10英寸觸摸屏簡單易用,提高對減薄區(qū)域的精度控制和減薄過程的可重復性。

配備的數(shù)碼變焦顯微鏡系統(tǒng)可以實時監(jiān)測減薄過程,同時可將獲取的彩圖存儲于DM軟件中,用于與樣品在TEM中成像對比。


性能優(yōu)點:


  • WhisperLok系統(tǒng)及X-Y可調(diào)樣品臺:可對樣品感興趣區(qū)域進行對中重復減薄
  • 低能量聚焦離子槍:改進的低能量范圍的性能可用于FIB樣品的表面清掃
  • 能量從 0.1 keV到 8 keV可調(diào) : 低能范圍的性能提升可以減少非晶層
  • 液氮冷臺:去除熱效應(yīng)產(chǎn)生的樣品損傷
  • 10英寸彩色觸摸屏控制:簡單易用的控制圖形用戶界面
  • 數(shù)碼變焦顯微鏡系統(tǒng):實時監(jiān)測減薄過程
  • DM軟件存儲彩圖:可以使用同TEM和EELS數(shù)據(jù)相同的格式儲存光學顯微圖像



應(yīng)用:


  • 半導體
  • 金屬(氧化物,合金)
  • 陶瓷



技術(shù)規(guī)格:

離子源

離子槍
兩個配有低能聚焦能力電極的潘寧離子槍
拋光角度(°)
+10 到-10,每支離子槍可獨立調(diào)節(jié)
離子束能量 (keV)
0.1 ? 8.0
離子束流密度峰值 (mA/cm2)
10
射束校準
使用熒光屏的精密光束校準
離子束直徑
可用氣體流量計或放電電壓來調(diào)節(jié)
樣品臺

樣品尺寸(mm)
3 或者 2.3
樣品夾持

標準
DuoPost®
可選
石墨臺
轉(zhuǎn)速 (rpm)
1 ? 6
離子束調(diào)制
角度范圍可調(diào)的單向調(diào)制或雙向調(diào)制
X, Y 方向平移 (mm)
±0.5
樣品觀察

Option 1
雙目顯微鏡
Option 2
數(shù)碼變焦顯微鏡及 DM 軟件存儲(選配)
真空系統(tǒng)

干泵系統(tǒng)
80 L/s 的渦輪分子泵,具備兩級隔膜前級泵
壓力 (torr)

基本壓力
5 x 10-6
工作壓力
8 x 10-5
真空規(guī)
冷陰極型,用于主樣品室;固體型,用于前級機械泵
樣品氣鎖
WhisperLok,技術(shù),樣品交換時間小于1 分鐘
用戶界面

10 英寸彩色觸摸屏
操作簡單,且能夠控制所有參數(shù)和配方式操作
尺寸及使用要求

外形尺寸 (長 x 寬 x 高, mm)
547 × 495×615
運輸重量 (kg)
45
功耗 (W)

運行時
200
待機時
100
電源要求
通用 100/240 VAC, 50/60 Hz (用戶電壓和頻率)
氬氣 (psi)
25


訂貨編號:LR-200635



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