?Apreo革命性的復合透鏡設計結合了靜電和磁浸沒技術，可產生的高分辨率和信號選擇

? Apreo 革命性的復合透鏡設計結合了靜電和磁浸沒技術，可產生的高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，并且不會降低磁性樣品性能。

? Apreo 受益于的透鏡內背散射探測，這種探測提供的材料對比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時也不例外。新型復合透鏡通過能量過濾進一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾?？蛇x低真空模式樣品倉壓力為 500 Pa，可以對要求最嚴苛的絕緣體進行成像。

? 通過這些優(yōu)勢（包括復合末級透鏡、高級探測和靈活樣品處理），Apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應對未來的研究難題。