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- 公司名稱 尖豐科技(香港)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 所在地 香港特別行政區(qū)
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時(shí)間 2024/7/8 15:55:57
- 訪問次數(shù) 70
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PMGI負(fù)光刻膠產(chǎn)品名稱:光刻膠型號(hào):PMGI關(guān)鍵詞:MicroChem系列光刻膠PMGILOR負(fù)光刻膠使能高產(chǎn),廣泛應(yīng)用于在處理多種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和無線芯片到MEMS的金屬剝離
PMGI 負(fù)光刻膠
產(chǎn)品名稱:光刻膠
型號(hào):PMGI
關(guān)鍵詞:MicroChem系列光刻膠
PMGI & LOR負(fù)光刻膠使能高產(chǎn),廣泛應(yīng)用于在處理多種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和無線芯片到MEMS的金屬剝離。PMGI & LOR負(fù)光刻膠作為雙疊層光刻膠,PMGI & LOR在超出單層防腐可以延長(zhǎng)限制剝離處理。這包括非常高的分辨率的金屬化(<0.25µM),以及非常厚(>4µm)金屬化。這些的材料可幾乎滿足任何客戶需要。
材料用途:金屬電梯加工,橋制造,釋放層
材料屬性:
l 覆蓋在成像抗蝕劑不會(huì)混雜
l 在TMAH雙疊層一步發(fā)展,或KOH開發(fā)
l 高熱穩(wěn)定性:Tg ~190 C
l 快速清除和常規(guī)抗剝離干凈
l 0.25µm微米雙層抗蝕成像
l 產(chǎn)量高,可用于很厚(>3µm)金屬剝離處理
Bi-Layer Lift-Off Process | Lift-Off: An enabling, additive lithographic process. |
Step 1. LOR or PMGI is coated | 1. Bi-layer resist pattern |
Step 2. The imaging resist is coated onto the LOR or PMGI layer. | 2. Metal Deposition |
Step 3. The imaging resist is exposed. | 3. Clean solvent lift-off |
Step 4. The wafer is developed. | |
Step 5. Metal Deposition | |
Step 6. Lift-Off! |
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