EH100膜厚儀是應(yīng)用于工業(yè)和科研領(lǐng)域中薄膜厚度常規(guī)測量的經(jīng)濟型解決方案，儀器一鍵操作極其簡單，可測量1nm–250um的透明或半透明薄膜，一次測量1秒內(nèi)完成

EH100 膜厚儀是應(yīng)用于工業(yè)和科研領(lǐng)域中薄膜厚度常規(guī)測量的經(jīng)濟型解決方案，儀 器一鍵操作極其簡單，可測量 1nm –250um 的透明或半透明薄膜，一次測量 1 秒內(nèi)完成。 EH100 膜厚儀基于白光干涉反射光譜的測量原理， 即寬光譜光波 0°垂直入射到樣品表面，在樣品基底 和膜層之間發(fā)生干涉，反射光波由高靈敏度光譜陣列 探測單元接收，采用專用軟件對光波的光譜反射率進(jìn) 行分析，得到樣品鍍層的膜厚信息。進(jìn)一步，還可以 通過分析得到膜層的其它物理信息（如，折射率、消 光系數(shù)），光譜范圍可覆蓋從紫外到近紅外。 EH100 膜厚儀主要用于光面基底上的透明、半透 明薄膜樣品進(jìn)行常規(guī)測量，可得到單層或少數(shù)多層薄 膜的膜厚，也可以得到薄膜的光學(xué)參數(shù)（如，折射率 n、消光系數(shù) k）。此外，也可以用 于粗糙表面上膜厚的測量。