◇ 徠卡leicaDM750M 是一臺理想地適用于基礎材料應用的工業(yè)實驗室或材料科學的光學設備。它的載物臺和反射光系統(tǒng)適合幾乎所有的樣品來獲取高品質圖像。

◇ 機械載物臺可以同時適配于透射光和反射光的應用。它可以裝配多種樣品夾來固定不通直徑尺寸的試樣。

◇ 的LED反射光照明提供了明場、偏振光和傾斜光照明模式，這可以讓客戶在同一臺顯微鏡上觀察多種不同的樣品。

◇ 照明 LED照明同時適用于透射光和反射光，提供給系統(tǒng)平均超過20年使用壽命的白色冷光，節(jié)省了未來20年更換燈泡的成本。

◇ 反射光照明器帶有LED 切邊技術，可廣泛適應明場、偏光，4段傾斜光的照明滿足日常實驗室需求。

◇ 高達1000倍的放大倍數(shù) 擁有4孔或5孔物鏡轉盤的機座，可以裝備全系列的物鏡組，放大倍數(shù)從50倍到1000倍。

◇ 配備M25 的 4 位或 5 位物鏡轉換盤。 標配高反差平場 EPI 系列物鏡。提供 50x 至 1000x 放大倍率，可以選裝高性能物鏡系列中的任意物鏡。

◇ 在狀態(tài)下操作 "工業(yè)級" 平面移動載物臺配25到30毫米的樣品夾，適合反射光和透射光的應用。

◇ 通用“工作”十字載物臺，適合反射光和發(fā)射光應用，可用于觀察樣品厚度達 30 mm 的拋光樣品或/和風化樣品。特殊的 (申請的) 樣品支座，適用于直徑 25 mm 至30 mm 的樣品。樣品引導裝置，精確定位樣品的 X/Y 位置。

Leica DM750M	with 4-position nosepiece for reflected & oblique light including industrial stage & stage wells	with 5-position nosepiece for RL, TL, oblique & polarized light including industrial stage & stage wells,
STAND	Leica DM750 M with 4-position nosepiece	Leica DM750 M with 5-position nosepiece & industrial stage (right hand)
TUBES	30° binocular tube	30° Trinocular tube
EYEPIECES	10×/20 focusing eyepiece with eyeguard
	10×/20 eyepiece with eyeguard
LLUMINATION	Incident light axis with LED illumination	Reflected light illuminator kit LED (RL-Axis, slot, polarizer & analyzer)
STAGE WELL PLATES	Stage well for small diameter samples	Stage well for small diameter samples
	Stage well for large diameter samples	Stage well for large diameter samples
		Abbe condensor
OBJECTIVES	Objective HI PLAN EPI 5×/0.12	Objective HI PLAN EPI 5×/0.12
	Objective HI PLAN EPI 10×/0.25	Objective HI PLAN EPI 10×/0.25
	Objective HI PLAN EPI 20×/0.40	Objective HI PLAN EPI 20×/0.40
	Objective N PLAN EPI 50×/0.75	Objective N PLAN EPI 50×/0.75
		Objective N PLAN EPI 100×/0.75

可選配件