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微波去膠機(jī)

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公司名稱 北京天科創(chuàng)達(dá)科技有限公司
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所在地 北京市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/6/4 15:21:46
訪問次數(shù) 111

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對人的依賴。

去膠工藝是微加工實(shí)驗(yàn)中一個(gè)非常重要的過程。在電子束曝光、紫外曝光等微納米加工工藝之后，都需要對光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠去除的是否干凈、對樣片是否有損傷等問題將直接影響到后續(xù)工藝的順利完成。德國ALPHA PLAMSA擁有多年的去膠經(jīng)驗(yàn)，致力于給您提供專業(yè)的微波等離子體去膠機(jī)系統(tǒng)，并提供專業(yè)的技術(shù)支持服務(wù)。產(chǎn)品優(yōu)勢：? 去膠快速? 對樣片無損傷? 操作簡單安全? 設(shè)計(jì)緊湊美觀? 產(chǎn)品性價(jià)比高

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? 設(shè)計(jì)緊湊美觀
? 產(chǎn)品性價(jià)比高

產(chǎn)品用途：

? 高劑量離子注入光刻膠的去除
? 濕法或干法刻蝕前后的去殘膠
? MEMS中犧牲層的去除
? 去除化學(xué)殘余物
? 清除浮渣工藝

型號參考(詳細(xì)說明請聯(lián)系我們)

SU-8膠的去除：

　　MEMS工藝中經(jīng)常用到SU8光刻膠，然而SU8非常穩(wěn)定，其最致命的缺點(diǎn)就是去膠困難。為了解決SU-8光刻膠的去膠問題，我們向您推薦德國Alpha Plasma專業(yè)的SU-8微波等離子體去膠機(jī)，該設(shè)備采用氟基氣體的去膠工藝，利用氟基氣體與SU-8膠的化學(xué)反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)快速去除SU-8功能。同時(shí)設(shè)備中還集成了溫控系統(tǒng)，去膠過程中對襯底溫度的控制保證了高深寬比金屬結(jié)構(gòu)的完整性，最終實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量MEMS器件的制備。SU-8去膠速率驗(yàn)收指標(biāo)為1μm/min，實(shí)驗(yàn)中可達(dá)到幾個(gè)微米。因此這款專業(yè)的SU8去膠機(jī)是MEMS去膠工藝的理想選擇。