HP1000G-CCR高溫?zé)崤_專為化學(xué)氣相沉積、石墨烯生長設(shè)計，可用于顯微鏡/光譜儀，可用于氣相沉積，石墨烯生長、高溫材料等領(lǐng)域?？啥ㄖ茦悠穮^(qū)。此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1000℃ 范圍內(nèi)控溫，同時允許光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺窗蓋與臺體構(gòu)成一個氣密腔，可以充入氮氣、還原性氣體、腐蝕性氣體等。

產(chǎn)品簡介

HP1000G-CCR高溫?zé)崤_專為化學(xué)氣相沉積、石墨烯生長設(shè)計，可用于顯微鏡/光譜儀，可用于氣相沉積，石墨烯生長、高溫材料等領(lǐng)域?？啥ㄖ茦悠穮^(qū)。
此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1000℃ 范圍內(nèi)控溫，同時允許光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺窗蓋與臺體構(gòu)成一個氣密腔，可以充入氮氣、還原性氣體、腐蝕性氣體等。

溫控參數(shù)

光學(xué)參數(shù)

結(jié)構(gòu)參數(shù)

配置列表

功能特點

溫控配件系列

用于Instec溫控裝置

適用范圍

用于搭配Instec冷熱臺、Instec溫控探針臺、Instec溫控晶圓夾盤、Instec冷熱平板、Instec定制溫控裝置使用。

溫控配件系列

LN2-SYS液氮制冷系統(tǒng)

主要分為液氮泵和液氮罐兩部分。使用時需用管路將溫控裝置串接在液氮罐和液氮泵之間，溫控裝置加熱塊內(nèi)埋有封閉式進出管路，液氮泵受mK2000B控制進行抽氣，把液氮從液氮罐內(nèi)吸到溫控裝置的加熱塊中，實現(xiàn)溫控裝置主動降溫。

外殼循環(huán)水冷系統(tǒng)

用于溫控裝置的外殼/底座的冷卻。溫控裝置加熱/制冷時，外殼/底座溫度會被帶得很燙/很涼，危害周遭人員設(shè)備及設(shè)備自身。用循環(huán)水讓外殼溫度保持在常溫附近，可以預(yù)防此災(zāi)害。

mK2000B溫控器

支持恒溫、恒速率變溫、暫停、編程溫控功能。具有冷熱獨立的多段PID控制、可保存4套20段校準(zhǔn)表等特點。可獨立控制，也可從InstecAPP軟件控制。

安裝支架

針對用戶設(shè)備定制，可讓熱臺水平固定/垂直固定等，垂直光路/水平光路等的用戶設(shè)備皆可適用。通常有：

圓環(huán)式（用于圓形載物臺），平板式（用于方形載物臺）、

載物臺式（用于代替設(shè)備載物臺）、立式（用于水平光路）。