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日立 超高分辨肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8700

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產(chǎn)品介紹 隨著快速數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理技術(shù)的發(fā)展,電子顯微鏡進(jìn)入了一個(gè)不僅重視數(shù)據(jù)質(zhì)量,而且注重其采集過(guò)程的時(shí)代。SU8700作為一款面向新時(shí)代的SEM,在日立電鏡貫有的高圖像質(zhì)量和高穩(wěn)定性的基礎(chǔ)上,增加了包括自動(dòng)獲取數(shù)據(jù)等高通量的功能。

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產(chǎn)品介紹:


隨著快速數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理技術(shù)的發(fā)展,電子顯微鏡進(jìn)入了一個(gè)不僅重視數(shù)據(jù)質(zhì)量,而且注重其采集過(guò)程的時(shí)代。SU8700作為一款面向新時(shí)代的SEM,在日立電鏡貫有的高圖像質(zhì)量和高穩(wěn)定性的基礎(chǔ)上,增加了包括自動(dòng)獲取數(shù)據(jù)等高通量的功能。


* 設(shè)備照片包含選配。


產(chǎn)品特點(diǎn):


超高分辨觀察和分析能力


日立的高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍可同時(shí)支持超高分辨觀察和快速微束分析。在不使用樣品臺(tái)減速的情況下,僅用0.1 kV的低加速電壓仍可進(jìn)行高分辨觀察,適應(yīng)更多應(yīng)用場(chǎng)景。同時(shí),可搭配多種新型探測(cè)器和其他豐富的選配項(xiàng),滿足更多的觀測(cè)需求。



的自動(dòng)化功能*


EM Flow Creator 允許客戶創(chuàng)建連續(xù)圖像采集的自動(dòng)化工作流程。EM Flow Creator將不同的SEM功能定義為圖形化的模塊,如設(shè)置放大倍率、移動(dòng)樣品位置、調(diào)節(jié)焦距和明暗對(duì)比度等。用戶可以通過(guò)簡(jiǎn)單的鼠標(biāo)拖拽,將這些模塊按邏輯順序組成一個(gè)工作程序。經(jīng)過(guò)調(diào)試和確認(rèn)后,該程序便可以在每次調(diào)用時(shí)自動(dòng)獲得高質(zhì)量、重現(xiàn)性好的圖像數(shù)據(jù)。



強(qiáng)大的顯示及交互特性


原生支持雙顯示器,提供靈活、高效的操作空間。
6通道同時(shí)顯示與保存,實(shí)現(xiàn)快速的多信號(hào)觀測(cè)與采集,帶來(lái)更多信息。
單次掃描支持 40,960×30,720 的超高像素*


大視野和高像素成像



左圖是視野約為120 μm,單次掃描采集的大鼠超薄切片樣品高像素圖像。將黃色矩形區(qū)域圖像進(jìn)行簡(jiǎn)單的數(shù)字放大,得到右圖。右圖相當(dāng)于左圖數(shù)字放大20倍,依然可以清晰確認(rèn)到神經(jīng)細(xì)胞的細(xì)胞器等的內(nèi)部構(gòu)造
SU8600和SU8700單次掃描像素可達(dá) 40,960 x 30,720.*


產(chǎn)品規(guī)格:


電子光學(xué)系統(tǒng)二次電子分辨率0.8 nm@15 kV
0.9 nm@1 kV
放大倍率20 ~ 2,000,000 x
電子槍肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源
加速電壓0.1 ~ 30 kV
著陸電壓*1*30.01 ~ 7 kV
束流200 nA
探測(cè)器標(biāo)配探測(cè)器上探測(cè)器(UD)
下探測(cè)器(LD)
選配探測(cè)器*3鏡筒內(nèi)背散射電子探測(cè)器(MD)
半導(dǎo)體式背散射電子探測(cè)器(PD-BSE)
高靈敏低真空探測(cè)器(UVD)
掃描透射探測(cè)器(STEM)
選配附件*2X射線能譜儀(EDS)
電子背散射衍射探測(cè)器(EBSD)
樣品臺(tái)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)軸5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)
移動(dòng)范圍
X0 ~ 110 mm
Y0 ~ 110 mm
Z1.5 ~ 40 mm
T-5 ~ 70°
R360°
樣品室樣品尺寸直徑:150 mm*4
低真空模式真空范圍5 ~ 300 Pa


*1 減速模式下


*2 可配置的探測(cè)器


*3 選配項(xiàng)


*4 如果有更大的樣品尺寸需求,請(qǐng)聯(lián)系我們。


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