PICOSUN™R-200標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)是ALD科研 設(shè)備市場(chǎng)的。它已經(jīng)成為一些創(chuàng)新公司 和研究機(jī)構(gòu)的研發(fā)工具。
靈活的設(shè)計(jì)確保沉積高質(zhì)量的ALD薄膜，超靈活的系統(tǒng)配置也能滿足用戶未來(lái)的需求和應(yīng)用。的熱壁設(shè)計(jì)、獨(dú)立的前驅(qū)體管 路和特殊的載氣設(shè)計(jì)，使得無(wú)顆粒沉積廣泛應(yīng)用于平面晶圓、3D基片和所有納米尺度的 材料。即使在挑戰(zhàn)性的多孔材料、超高深 寬比和納米顆粒表面沉積， 系統(tǒng)都能實(shí)現(xiàn)的均勻性， 這些都?xì)w功于我們的技術(shù) Picoflow™。Picosun™R-200標(biāo)準(zhǔn)型系統(tǒng)配備功 能強(qiáng)大和易于更換的液體、氣體和固體前驅(qū)體 源。系統(tǒng)可集成手套箱， 粉末反應(yīng)腔和各種在 線分析系統(tǒng)， 使您的研究變得高效和靈活。 即 使將來(lái)您改變研究領(lǐng)域， 它仍然會(huì)是您幫手！
技術(shù)參數(shù)：
襯底尺寸和類型
? 50-200 mm/片
? 156 mm x 156 mm太陽(yáng)能硅片
? 3D 復(fù)雜表面襯底
? 粉末與顆粒
? 小批量
? 多孔， 通孔， 高深寬比（HAR）樣品 （可達(dá)1:2500）
工藝溫度
? 50 – 500°C
沉積材料
? Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金屬 Pt 或者 Ir
基片加載
? 氣動(dòng)升降，手動(dòng)加載
? 預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手（Load lock）
前驅(qū)體
? 液態(tài)， 固態(tài)， 氣態(tài)， 臭氧源
? 4根獨(dú)立源管線， 最多加載6個(gè)前驅(qū)體源
選件
? PICOFLOW™擴(kuò)散增強(qiáng)器， RGA、N2發(fā)生器、尾氣處理器、定制設(shè)計(jì)，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）
