應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)年代測(cè)量，LA-ICP-MS連用。

產(chǎn)品型號(hào)：

       Ex-Light 193。

產(chǎn)品說(shuō)明：

       Ex-Light 193是新一代193nm準(zhǔn)分子激光剝蝕系統(tǒng)。采用了德國(guó)Mlase超穩(wěn)定的低功率，讓設(shè)備使用更穩(wěn)定，壽命更長(zhǎng)。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，集成度高，光路簡(jiǎn)潔實(shí)用，光斑勻化效果好。能將激光器的能量限度地作用于樣品表面，提高樣品表面的激光。能量密度，增強(qiáng)剝蝕過(guò)程中的信號(hào)靈敏度。

技術(shù)特點(diǎn)：

       193nm，超短脈寬，高峰值功率、靜態(tài)氣體壽命 >30天、激光器壽命 >20億次脈沖、樣品表面能量密>15J/cm² 、  多種樣品室方案可定制、反射/透射照明、同軸機(jī)器視覺(jué)，所見(jiàn)即所得。

應(yīng)用領(lǐng)域：

       同位素比率測(cè)定、流體包裹體研究、鋯石U/Pb紀(jì)年、海洋沉積物分析、環(huán)境分析、考古研究。