應(yīng)用領(lǐng)域：主要用于研究或測(cè)試薄膜等納米材料的接觸剛度、蠕變、彈性功、塑性功、斷裂韌性、應(yīng)力-應(yīng)變曲線、疲勞、存儲(chǔ)模量及損耗模量等特性

應(yīng)用領(lǐng)域：主要用于研究或測(cè)試薄膜等納米材料的接觸剛度、蠕變、彈性功、塑性功、斷裂韌性、應(yīng)力-應(yīng)變曲線、疲勞、存儲(chǔ)模量及損耗模量等特性。

性能特點(diǎn)：

1. 多維度測(cè)量耦合，包括納米/微米壓痕、納米劃痕、納米摩擦磨損、高分辨原位掃描探針顯微鏡成像、動(dòng)態(tài)納米壓痕和高速力學(xué)性能成像等；

2. 簡(jiǎn)潔、高速的自動(dòng)控制，針尖面積函數(shù)自動(dòng)校正，傳感器自動(dòng)校正，壓針和光學(xué)系統(tǒng)校正；

3. *低的噪音水平，從微米到幾個(gè)納米的多尺度測(cè)量納牛級(jí)別的力噪音水平和小于90%原子直徑的位移測(cè)量能力，實(shí)現(xiàn)幾乎任何材料的定量表征；

4. *快的反饋控制速率，每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整反饋控制，實(shí)現(xiàn)*大精度、可信度和重復(fù)性的真正定量納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征特殊的力和位移反饋控制。