1. ME-L型寬光譜穆勒矩陣橢偏儀
概述 ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入，其采用行業(yè)的創(chuàng)新技術(shù)，包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。可應(yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。
雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測(cè)量全部穆勒矩陣16個(gè)元素；
配置自動(dòng)變角器、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬件模塊；
軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì)，易上手、操作便捷；
豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù)，保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。 |
一、產(chǎn)品特點(diǎn) 1、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
2、可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理，測(cè)量信息量更大，測(cè)量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn)；
3、基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置，可一次測(cè)量獲得全部穆勒矩陣的16個(gè)元素，相對(duì)傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面的測(cè)量信息；
4、頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi)，提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜；
5、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫(kù)、多種算法模型庫(kù)，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；
6、集成對(duì)納米光柵的分析，可同時(shí)測(cè)量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線(xiàn)寬、線(xiàn)高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息；
二、產(chǎn)品應(yīng)用 半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu)：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等；
半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu)：納米光柵，套刻誤差，T型相變存儲(chǔ)器等；
新材料，新物理現(xiàn)象研究：材料光學(xué)各向異性，電光效應(yīng)、彈光效應(yīng)、聲光效應(yīng)、磁光效應(yīng)、旋光效應(yīng)、Kerr效應(yīng)、Farady效應(yīng)等；
平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
光伏太陽(yáng)能：光伏材料（如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等）反射率，消光系數(shù)測(cè)量，膜層厚度及表面粗糙度測(cè)量等；
功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類(lèi)、Al2O3表面鍍層和處理等；
生物和化學(xué)工程：有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等；
塊狀材料分析：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等）或液體（純凈物或混合物）的折射率n和消光系數(shù)k表征，玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。
建議配件
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| 溫控臺(tái) | Mapping擴(kuò)展模塊 | 真空泵 | 透射吸附組件 |
