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參考價(jià) | 面議 |
- 公司名稱 上海瓦克儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào) GDProfiler2
- 所在地 上海市
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時(shí)間 2024/3/13 21:41:39
- 訪問次數(shù) 57
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解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等
解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)
輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽、光學(xué)玻璃、核材料等。
GD-Profiler 2 作為快鍍層分析的理想工具,適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡單、便于維護(hù),是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。
? 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。
技術(shù)參數(shù):
1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短,表面信息無任何失真。
儀器原理:
輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當(dāng)施加在放電兩的電壓達(dá)到一定值,超過激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,產(chǎn)生陰濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。*您想獲取產(chǎn)品的資料:
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