激光燒蝕進(jìn)樣是80 年代末、90 年代初形成的一種新型的固體分析技術(shù)。當(dāng)聚集的激光束以足夠的能量耦合在樣品表面時(shí),樣品表面的物質(zhì)被熔融、濺射和蒸發(fā), 形成的樣品蒸氣與細(xì)微顆粒由載氣傳輸至等離子體中被原子化、離子化，為質(zhì)譜、光譜等儀器提供一種新型的固體進(jìn)樣方式。

激光燒蝕進(jìn)樣是80 年代末、90 年代初形成的一種新型的固體分析技術(shù)。當(dāng)聚集的激光束以足夠的能量耦合在樣品表面時(shí),樣品表面的物質(zhì)被熔融、濺射和蒸發(fā), 形成的樣品蒸氣與細(xì)微顆粒由載氣傳輸至等離子體中被原子化、離子化，為質(zhì)譜、光譜等儀器提供一種新型的固體進(jìn)樣方式。

儀器特點(diǎn)：

激光燒蝕原位進(jìn)樣系統(tǒng)具有原位、實(shí)時(shí)、快速的分析優(yōu)勢(shì)和靈敏度高、空間分辨率<10um的特點(diǎn)，對(duì)樣品微區(qū)分析、材料表面的元素分布分析、薄膜或鍍層的深度分析等方面都具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)；固體樣品不需分解，可以直接測(cè)定，避免了樣品前處理過(guò)程中引入的污染和難溶樣品溶解困難的問(wèn)題。

儀器參數(shù)：

一.激光光源及光路系統(tǒng)
?   激光器類(lèi)型：燈泵浦的固體調(diào)Q激光器
?   波長(zhǎng)：213nm
?   頻率：（1、2、5、10）Hz，可調(diào)
?   輸出能量：>=9mJ@213nm
?   光斑大?。?μm~110μm,12個(gè)光斑尺寸可調(diào)，計(jì)算機(jī)控制

二.樣品控制掃描系統(tǒng)
?   二維電機(jī)行程：85mm*85mm
?   定位分辨率：1μm
?   定位精度：5μm
?   重復(fù)定位精度：3μm

三．樣品載帶及氣路控制
?   樣品倉(cāng)：密閉腔室
?   氣路控制：計(jì)算機(jī)控制，電磁閥切換
?   流量控制：MFC計(jì)算機(jī)控制

四.樣品成像系統(tǒng)
?   視場(chǎng)范圍：0.65*0.53mm
?   放大倍數(shù)：10×
?   分辨率：1280x1024