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顯微PL光譜測量系統(tǒng)

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光致發(fā)光(photoluminescence)即PL,是用紫外、可見或紅外輻射激發(fā)發(fā)光材料而產生的發(fā)光,在半導體材料的發(fā)光特性測量應用中通常是用激光(波長如325nm、532nm、785nm等)激發(fā)材料(如GaN、ZnO、GaAs等)產生熒光,通過對其熒光光譜(即PL譜)的測量,分析該材料的光學特性,如禁帶寬度等

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光致發(fā)光(photoluminescence)即PL,是用紫外、可見或紅外輻射激發(fā)發(fā)光材料而產生的發(fā)光,在半導體材料的發(fā)光特性測量應用中通常是用激光(波長如325nm、532nm、785nm等)激發(fā)材料(如GaN、ZnO、GaAs等)產生熒光,通過對其熒光光譜(即PL譜)的測量,分析該材料的光學特性,如禁帶寬度等。光致發(fā)光可以提供有關材料的結構、成分及環(huán)境原子排列的信息,是一種非破壞性的、高靈敏度的分析方法,因而在物理學、材料科學、化學及分子生物學等相關領域被廣泛應用。

傳統(tǒng)的熒光光譜儀一般采用透鏡收光的方式,針對發(fā)光非常微弱的納米材料,即便用激光器激發(fā),也很難獲得較好的信號。結合多年的實際測樣經(jīng)驗,良允科儀推出了顯微PL系統(tǒng),采用顯微物鏡收光,較傳統(tǒng)的熒光光譜儀其收光效率提升了至少3個數(shù)量級,因此特別適用于傳統(tǒng)熒光系統(tǒng)難以檢測到的微弱信號,另外其輔助的白光成像功能,還可以實現(xiàn)微區(qū)(微米級)定位測量。

應用領域:

· 半導體材料

· 納米材料

· 薄膜材料

· 光波導器件

· LD, LED外延片


產品特點:

· 光譜范圍:200-1700nm

· 光斑大?。骸?0μm(325nm激光、100X物鏡)

· 光譜分辨率:優(yōu)于0.1nm

· 白光成像分辨率:亞微米級

· 激光器:266nm、325nm、360nm、405nm、488nm、510nm、532nm、633nm、785nm等可選

· 樣品臺:手動/電動可選

· 采譜模式:單點掃描/線掃描可選


系統(tǒng)功能

· 微區(qū)PL測量

· 可同時配置多路激光器

· 自由光路耦合,保障光效率

· 顯微光路設計,保障激發(fā)、收集效率

· 高精度位移臺,實現(xiàn)微米級定位測量


擴展功能:

· 微區(qū)電致發(fā)光(EL)測量

· 熒光壽命測量:ps-ms量級

· 自動Mapping功能:50mm×50mm行程,步進精度1μm

· 光電流譜(成像)測量

· 光電材料響應度測試

· 變溫附件:77K-600℃/4K、10K超低溫


實測案例:

樣品(粉末):8%Ag2S/SnS2-ND

激發(fā)光源:405nm激光器,積分時間:0.5s;


AlGaN寬禁帶半導體材料



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