XAD系列熒光光譜儀是一款全元素上照式光譜儀，可測(cè)量納米級(jí)厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及多元素成分分析，的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。

性能優(yōu)勢(shì)：

1、微小樣品檢測(cè)：最小測(cè)量面積0.0085mm2

2、變焦裝置算法：可改變測(cè)量距離

測(cè)量面積：最小0.008mm2

鍍層分析：23層鍍層24種元素

儀器特點(diǎn)：RoHS鹵素有害元素檢測(cè)

儀器優(yōu)勢(shì)：全元素自動(dòng)分析

儀器簡(jiǎn)介：

XAD是一款上照式全元素光譜分析儀，可測(cè)量納米級(jí)厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及多元素成分分析，的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。

被廣泛用于各類(lèi)產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

技術(shù)參數(shù)：

1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）

2. 成分檢出限：1ppm

3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）

4. 涂鍍層檢出限：0.005μm

5. 最小測(cè)量直徑□0.1*0.3mm（最小測(cè)量面積0.03mm2）

標(biāo)配：最小測(cè)量直徑0.3mm（最小測(cè)量面積0.07mm2）

6. 對(duì)焦距離：0-30mm

7. 樣品腔尺寸：530mm*570mm*150mm

8. 儀器尺寸：550mm*760mm*635mm

9. 儀器重量：100KG

10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍：100mm*150mm

11. XY軸工作臺(tái)承重：15KG

應(yīng)用領(lǐng)域：

多元迭代EFP核心算法

專(zhuān)業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開(kāi)發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子，可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過(guò)EFP算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。

有害元素檢測(cè)：RoHS檢測(cè)，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）、鎘（Cd）、六價(jià)鉻（Cr VI）等有害元素的成分檢測(cè)及含量分析

配置清單：