XAU系列X熒光光譜分析儀
測(cè)量面積：最小0.03mm2
鍍層分析：23層鍍層24種元素
儀器特點(diǎn)：可手動(dòng)變焦
儀器優(yōu)勢(shì)：同元素不同層分析
儀器簡(jiǎn)介：
XAU是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì)，是一款一機(jī)多用型光譜儀。
應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù)，既保留了專用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
技術(shù)參數(shù)：
1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）
2. 成分檢出限：5ppm
3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）
4. 涂鍍層檢出限：0.005μm
5. 最小測(cè)量直徑□0.1*0.3mm（最小測(cè)量面積0.03mm2）
標(biāo)配：最小測(cè)量直徑0.3mm（最小測(cè)量面積0.07mm2）
6. 對(duì)焦距離：0-30mm
7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm
8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm
9. 儀器重量：45KG
10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍：50mm*50mm
11. XY軸工作臺(tái)承重：5KG
應(yīng)用領(lǐng)域：
多元迭代EFP核心算法
專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子，可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過(guò)EFP算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。
配置清單：
