XAD-200是一款上照式全元素光譜分析儀，可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析，的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題

XAD-200是一款上照式全元素光譜分析儀，可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析，的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。 

• 微小樣品檢測：最小測量面積0.008mm²

• 變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-90mm

• 自主研發(fā)的EFP算法：AI(3)-U(92)元素的成分分析，Li(3)-U(92)元素的涂鍍層檢測，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量

• 的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限

• 高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積20/50mm²探測器

• X射線裝置：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦裝置

• 上照式設(shè)計：實(shí)現(xiàn)對超大樣品或者密集點(diǎn)位進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測量

• 可編程自動位移：選配自動平臺，X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無人值守自動測量

• 多準(zhǔn)直器自動切換