儀器特點：1、該設(shè)備的發(fā)明，有利于讓應(yīng)用方法工程師挖掘設(shè)備潛力

儀器特點：

1、 該設(shè)備的發(fā)明，有利于讓應(yīng)用方法工程師挖掘設(shè)備潛力。以便于擴展應(yīng)用場合；

2、一次可分析多個元素；

3、本法主要是“干”法分析技術(shù)，固體試樣(金屬切屑或粉末)直接激發(fā)；

4、化學試劑和器皿引入的空白、環(huán)境的污染基本消除；不使用易燃、易爆和對人體有害氣體，也不使用化學試劑，利于人體健康、安全和環(huán)境保護；

5、操作簡便，分析過程只需稱樣、激發(fā)、計算機分析直接得出未知樣品的濃度；

6、 在激發(fā)樣品時，每個元素存在不同的生命周期，因此需要元素蒸發(fā)曲線功能來確定不同元素積分的分析時間段；

 主要技術(shù)指標：

1、光譜范圍：200nm—500nm

2、光學焦距：998.8mm

3、光柵刻線：2160gr/mm，色散率：0.47nm/mm

4、水冷電極：循環(huán)冷卻水裝置，自動控溫

5、光    源：空心陰極電源

6、恒溫系統(tǒng)：36±0.1℃

7、重    量：約500KG

8、尺    寸：1800x1050x1245mm

9、環(huán)境條件：溫度相對濕度不大于75% 

典型應(yīng)用：

1、空心陰極光譜儀，精度0.000001%。它是對超純難熔金屬痕量雜質(zhì)元素的含量進行檢測。標準規(guī)定航空材料中45種雜質(zhì)元素（Pb、As、Sn、Bi……）的含量總和不能超過0.005%。 

其他應(yīng)用領(lǐng)域：

1、氧化鈾中的氟和氯檢測；

2、堿金屬分析；

3、鋼中氧的測定；

4、超純試劑和半導體中痕量雜質(zhì)的定量測定；