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面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 北京埃光科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地 北京市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/2/21 14:13:25
訪問次數(shù) 54

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促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

商品描述離面掠入射光譜儀涉及用于極紫外及真空紫外波長(zhǎng)，~8到125nm（10到150eV）

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商品描述

離面掠入射光譜儀涉及用于極紫外及真空紫外波長(zhǎng)，~8 到 125nm（10 到 150eV）。它是一種具有點(diǎn)對(duì)點(diǎn)成像的單色儀，特別適合高次諧波產(chǎn)生的實(shí)驗(yàn)，如光電子發(fā)射光譜學(xué)、泵浦探測(cè) ARPES實(shí)驗(yàn)等。掠入射離面光學(xué)系統(tǒng)效率高，時(shí)間展寬小，成像好，使用通用的衍射光柵。這種單色儀非常適合高諧波激光和其他固定源（點(diǎn)、LPP、同步加速器）的實(shí)驗(yàn)。

點(diǎn)對(duì)點(diǎn)成像

高通光量

掃描/CCD探測(cè)

OP-XCT PDF Data Sheet

New! from NATURE Communications "Time-resolved XUV ARPES with tunable 24–33 eV laser pulses at 30 meV resolution"

Off-plane EUV spectrograph aids plasma research from LASER FOCUS WORLD

Focal Length	800 mm (others available when HHG source distances require)
Acceptance	8 mrad
Angle of Incidence	85 degrees (5 degrees grazing incidence)
Entrance & Exit Slits>	Continuously variable micrometer actuated width AND height, 0.02 to 6mm
Grating Mount	3-position, adjustable in vacuum
Vacuum Compatible	10-6 torr (optional metal sealed UHV for 10E-10 torr)
Gratings	80 x 30mm substrate
Wavelength Range	refer to grating of interest for range

The XCT may be used for scanning applications with an exit slit or array detectors (eg. CCD or microchannel plate intensifiers.)

Performance with various diffraction gratings:

Grating groove density (g/mm) (others available)	1800	1200	600	300
Resolution (nm, FWHM)	0.06	0.08*	0.16	0.32
Grating Range (nm)	0 to 25	0 to 35	0 to 75	0 to 140
1st Order Blaze (nm)	44	27	84	113
		19	30	81
		5	14
		3