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納米顆粒測定儀器IG-1000

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產(chǎn)品詳細(xì)信息: 產(chǎn)品信息 作為粒度儀的專業(yè)生產(chǎn)廠商,島津公司新推出了劃時(shí)代的單一納米顆粒測定儀器IG-1000,并在美國伊利諾斯州芝加哥市的邁考密展覽中心召開的Pictton 2009(3月8日至3月13日)展會眾多產(chǎn)品中脫穎而出,獲得撰稿人獎銅獎。 與以往粒度測定儀器原理不同,IG方法(Induced Grating method)是島津公司開發(fā)的無二的納米粒徑測定技術(shù)。IG-1000采用介電電泳原理,介電電泳ON時(shí),形成部分的高(低)粒子濃度;介電電泳OFF時(shí), 粒子擴(kuò)散恢復(fù)為原始狀態(tài);由介電電泳力使粒子構(gòu)成衍射光柵,擴(kuò)散后的濃度降低導(dǎo)致衍射光強(qiáng)度降低,從衍射光強(qiáng)度的時(shí)間變化可以得到粒子的擴(kuò)散系數(shù),進(jìn)而得到粒子的粒徑。 IG-1000相關(guān)參數(shù)如下:光源:半導(dǎo)體激光(波長785nm)測定原理:誘導(dǎo)衍射光柵法測量范圍:0.5~200nm測定體積:250~300uL測定時(shí)間:總計(jì)30秒 與目前采用散射光的動態(tài)光散射儀器(DLS)方法相比較, 優(yōu)勢明顯。測定范圍到0.5nm,在單一納米顆粒領(lǐng)域可......

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作為粒度儀的專業(yè)生產(chǎn)廠商,島津公司新推出了劃時(shí)代的單一納米顆粒測定儀器IG-1000,并在美國伊利諾斯州芝加哥市的邁考密展覽中心召開的Pictton 2009(3月8日至3月13日)展會眾多產(chǎn)品中脫穎而出,獲得“撰稿人獎”銅獎。
與以往粒度測定儀器原理不同,IG方法(Induced Grating method)是島津公司開發(fā)的無二的納米粒徑測定技術(shù)。IG-1000采用介電電泳原理,介電電泳ON時(shí),形成部分的高(低)粒子濃度;介電電泳OFF時(shí), 粒子擴(kuò)散恢復(fù)為原始狀態(tài);由介電電泳力使粒子構(gòu)成衍射光柵,擴(kuò)散后的濃度降低導(dǎo)致衍射光強(qiáng)度降低,從衍射光強(qiáng)度的時(shí)間變化可以得到粒子的擴(kuò)散系數(shù),進(jìn)而得到粒子的粒徑。

IG-1000相關(guān)參數(shù)如下:

  • 光源:半導(dǎo)體激光(波長785nm)
  • 測定原理:誘導(dǎo)衍射光柵法
  • 測量范圍:0.5~200nm
  • 測定體積:250~300uL
  • 測定時(shí)間:總計(jì)30秒

與目前采用散射光的動態(tài)光散射儀器(DLS)方法相比較, 優(yōu)勢明顯。測定范圍到0.5nm,在單一納米顆粒領(lǐng)域可以獲得十分良好的信噪比(S/N),靈敏度也非常高,如圖一。

圖一 C60(OH)n的測定結(jié)果 大阪大學(xué) 小久保先生提供

即便樣品中含有少量的粗大粒子時(shí)對測定也沒有影響,分布廣的樣品可以得到正確的結(jié)果,克服了以往DLS產(chǎn)品耐污染性差的缺點(diǎn)。如圖二所示。

圖二 粒徑為50nm的粒子的測定結(jié)果,樣品中含有1%的1um的粒子

IG-1000不使用散射光,因此不受物理參數(shù)的限制,不要求輸入折射率因子(refractive index)作為測量條件。

列入將來JIS計(jì)劃的分布范圍10倍的氧化硅粒子樣品,在IG-1000上能夠給出很好的測定效果,中間粒徑是76nm,與SEM的結(jié)果非常一致;而該樣品如果使用DLS測定,中間粒徑測定結(jié)果為100~150nm。該結(jié)果如圖三所示,已在2008年十月份的日本粉體工學(xué)會,與同志社大學(xué)的森先生共同發(fā)表。

圖三 分布范圍10倍的氧化硅粒子測定結(jié)果

IG-1000的方便可靠之處還在于,可利用原始數(shù)據(jù)(衍射光強(qiáng)度對時(shí)間的變化)來進(jìn)行測定結(jié)果的可靠性驗(yàn)證,如圖四。

圖四 不同尺度粒子的衍射光強(qiáng)度與時(shí)間的關(guān)系

島津公司粒度測定裝置種類齊全,單一納米粒徑的新產(chǎn)品IG-1000可以與島津其他多種型號的激光粒度儀聯(lián)合使用,實(shí)現(xiàn)了從納米到微米范圍的可靠測定。


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