TC-Wafer晶圓測溫系統(tǒng) 真空腔體溫度監(jiān)控
一、【晶圓測溫的重要性】
在晶圓制造過程中，溫度的均衡與控制對于保證晶體生長、薄膜沉積和離子注入等工藝的穩(wěn)定性至關(guān)重要。晶圓測溫技術(shù)能夠?qū)崟r監(jiān)測晶圓表面的溫度分布，確保整個晶圓上各處的溫度保持一致，從而避免不均勻性引發(fā)的問題。
TC-Wafer采用*的溫度傳感技術(shù)，能夠以高精度測量晶圓表面溫度。這對于芯片制造過程中的溫度控制至關(guān)重要，有助于提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
系統(tǒng)配備了多個溫度傳感器，可同時監(jiān)測晶圓不同位置的溫度變化。這種多點監(jiān)測的能力有助于發(fā)現(xiàn)溫度梯度，優(yōu)化生產(chǎn)過程并減少不均勻性。
二、【產(chǎn)品用途】
TC-Wafer是將高精度溫度傳感器鑲嵌在晶圓表面，對晶圓表面的溫度進行實時測量。通過晶圓的測溫點了解特定位置晶圓的真實溫度，以及晶圓整體的溫度分布，同還可以監(jiān)控半導體設(shè)備控溫過程中晶圓發(fā)生的溫度變化，獲得升溫、降溫以及恒溫過程期間的溫度溫度數(shù)據(jù)，從而了解半導體設(shè)備的溫度均勻度。
三、【產(chǎn)品特點】
- 傳輸通道數(shù)量可定制;
- 優(yōu)異的軟件功能，可用圖形及顏色顯示溫度分布狀況;
- 數(shù)據(jù)可儲存調(diào)用;
- 可提供溫度曲線圖，方便直觀的看到溫度變化趨勢
- 真空環(huán)境下，溫度傳感器保持高精度和良好的穩(wěn)定性
四、【應(yīng)用行業(yè)】
TC-Wafer晶圓測溫系統(tǒng)應(yīng)用于許多行業(yè)，包括快速熱處理 (RTP)、快速熱退火 (RTA)、曝光后烘烤 (PEB)、化學氣相沉積 (CVD)、物理氣相沉積 (PVD)、ION 等應(yīng)用注入、太陽能電池和許多其他熱驅(qū)動工藝。智測電子具有高精度溫度測量與控制技術(shù)和經(jīng)驗，支持產(chǎn)品定制。
TC-Wafer晶圓測溫系統(tǒng) 真空腔體溫度監(jiān)控
