DSX-VPD-8L-S/DSX-VPO-8L-S真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
設(shè)備簡(jiǎn)介：
1、真空腔
采用進(jìn)口材料制作而成，焊接無(wú)漏氣，*優(yōu)化 8 層電*設(shè)計(jì)合理利用空間，專業(yè)等離子發(fā)生方式，絕緣可靠良好。
2、射頻電源
*全可靠的射頻電源(13.56MHz)，為等離子的產(chǎn)生提供保障。
3、真空泵
快速抽真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)，真空度可至 10pa 以內(nèi)，保證設(shè)備使用的各個(gè)需求壓力。
4、控制系統(tǒng)
PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)，方便客戶使用和操作。
5、流量控制系統(tǒng)
專業(yè)閉環(huán)流量控制系統(tǒng)，保證工藝氣體的準(zhǔn)確，確保等離子的效果的穩(wěn)定。
裝機(jī)前準(zhǔn)備：
1、壓縮空氣：≥0.5mpa，?6mm PU 管
2、工藝氣體：AR&O2(純度：≥99.999%)0.15～0.25mpa，?6mm PU 管
3、廢氣排放：?50mm 接口
4、主電源：≥ 4mm2 電源線(三相五線)，5.7KW Main
設(shè)備工作流程：
1、真空抽?。簩a(chǎn)品放置腔體內(nèi)，關(guān)上腔體門(mén)，打開(kāi)真空泵，將真空腔內(nèi)氣壓從常壓抽至 30pa(自行設(shè)置)以內(nèi);
2、添加工藝氣體：將準(zhǔn)確流量的工藝氣體添加至真空腔室內(nèi)，均勻分布;
3、產(chǎn)生等離子：射頻電源提供能量電離真空腔內(nèi)的工藝氣體，形成等離子體;
4、產(chǎn)品處理：根據(jù)設(shè)置時(shí)間處理產(chǎn)品的等離子處理時(shí)間;
5、破真空：產(chǎn)品處理完成后，打開(kāi)破真空電磁閥，將真空腔壓力恢復(fù)至常壓取出產(chǎn)品。
DSX-VPD-8L-S/DSX-VPO-8L-S真空等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù)：
名稱（Name） | Vacuum Plasma system真空等離子清洗機(jī) |
型號(hào)（Model） | DSX- VPD-8L-S |
技術(shù)參數(shù)(Technical Parameter) | 備注(Remarks) |
1 | 控制系統(tǒng) (Control system) | PLC+HMI | Mitsubishi |
2 | 真空泵 Vacuum Pump | 旋片式真空泵 Rotary vacuum pump | TVP |
3 | 等離子發(fā)生系統(tǒng) Plasma generator | 射頻電源 0-1000w+全網(wǎng)絡(luò)自動(dòng)匹配器 RF Power 13.56MZH 1000W + Matching network | KVMEN |
4 | 真空監(jiān)控系統(tǒng)Vacuum Guage | 皮拉尼電阻式真空計(jì) Pirani resistance vacuum gauge | Ulvac |
5 | 氣體流量控制系統(tǒng)Mass Flow Control | 質(zhì)量流量控制器 MFC control system | ETON |
6 | 氣體控制系統(tǒng) Gas control system | 二通電磁閥控制 2 Channel solenoid valve control | SMC |
7 | 抽真空控制系統(tǒng)Vacuum output control | 高真空氣動(dòng)擋板閥 GDW-KF40 Hi-level vacuum pneumatic flapper valve GDW-KF40 | ISO standard |
8 | 破真空控制系統(tǒng)Vacuum breaking control | 高真空氣動(dòng)擋板閥 GDW-KF16 Hi-level vacuum pneumatic flapper valve | ISO standard |
9 | 電*層數(shù) Electrode Layer | 水平電*板 8 層(層數(shù)可選) 8 Layers of horizontal electrode plate（Option） | AL6061-L |
10 | 有效處理面積 Effective treatment area | 300mm（D）*400mm（W） | Option |
11 | 工藝氣體通道 Process gas channel | 兩路工作氣體可選擇：AR O2 N2 H2 CF4 等 2 channels process gases option: AR O2 | Option |
12 | 腔體規(guī)格 Chamber Size | 450mm(W)*450mm(D)*400mm(H) | AL-6061-L |
13 | 整機(jī)外形尺寸 Layout Size | 995mm（W）*1085mm（D）*1750mm（H） |
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名稱（Name） | Vacuum Plasma system |
型號(hào)（Model） | DSX-VPO-8L-S |
技術(shù)參數(shù)(Technical parameters) | 備注Remarks |
1 | 設(shè)備電源Power supply | 3P : 380VAC 50/60Hz |
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2 | 設(shè)備功率Power KW | 5.7KW |
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3 | 工作真空度 Working vacuum point | 10-100Pa |
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4 | 抽真空時(shí)間 Vacuum output time | ≤100s |
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5 | 破真空時(shí)間 Vacuum breaking time | ≤30s |
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6 | 射頻電源功率 RF Power KW | 0-1000W |
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7 | 機(jī)臺(tái)重量Weight | ≤500KG |
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8 | 質(zhì)量流量控制系統(tǒng) MFC Range | 0-200sccm |
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9 | 操作方式 Mode of operation | 全自動(dòng)運(yùn)行系統(tǒng)，一鍵啟動(dòng) Fully auto operation system, One-key starting |
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