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Quattro-環(huán)境掃描場(chǎng)發(fā)射電鏡

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        Quattro SEM為具有環(huán)境真空功能的極靈活、多功能高分辨率掃描電鏡,可以將成像和分析全面性能與環(huán)境模式(ESEM)相結(jié)合,使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行。

        Quattro的場(chǎng)發(fā)射電子槍(FEG)確保了優(yōu)異的分辨率,通過(guò)不同的探測(cè)器選項(xiàng),可以調(diào)節(jié)不同襯度信息,包括定向背散射、STEM和陰極熒光信息。來(lái)自多個(gè)多個(gè)探測(cè)器和探測(cè)器區(qū)分的圖像可以同步采集和顯示,使得單次掃描即可獲得樣品信息,從而降低電子束敏感樣品的束曝光并實(shí)現(xiàn)真正額動(dòng)態(tài)試驗(yàn)。Quattro的三種真空模式使得系統(tǒng)靈活性,可以容納泛的樣品類型,無(wú)論樣品導(dǎo)電、絕緣、潮濕或是在高溫條件下,均可獲得可靠的分析結(jié)果。Quattro的硬件有用戶向?qū)еС?,不僅可以指導(dǎo)操作者,還可以直接進(jìn)行交換,輕松縮短結(jié)果獲取時(shí)間。


    金屬及合金、斷口、焊點(diǎn)、拋光斷面、磁性及超導(dǎo)材料
    陶瓷、復(fù)合材料、塑料
    薄膜/涂層
    地質(zhì)樣品斷面、礦物
    軟材料:聚合物、藥物、濾膜、凝膠、生物組織、植物材料
    顆粒、多孔材料、纖維
    水合/脫水/濕潤(rùn)/接觸角分析
    結(jié)晶/相變
    氧化/催化
    材料生成
    拉伸(伴隨加熱或冷卻)




    發(fā)射源:高穩(wěn)定型肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍


    分辨率:




    型號(hào)

    Quattro C

    Quattro S

    高真空

    30 kVSTEM

    0.8 nm

    30 kVSE

    1.0 nm

    1 kVSE

    3.0 nm

    高真空下減速模式

    1 kVBD+BSED

    3.0 nm

    1 kVBD+ICD

    2.1 nm

    200 VBD+ICD

    3.1 nm

    低真空

    30 kVSE

    1.3 nm

    3 kVSE

    3.0 nm

    30 kVBSE

    2.5 nm

    環(huán)境掃描模式

    30 kVSE

    1.3 nm


    放大倍率:6 ~ 2,500,000×
    加速電壓范圍:200 V ~ 30 kV
    著陸電壓:20 eV~30 keV,電子束減速可選
    探針電流范圍:1 pA ~ 200 nA,連續(xù)可調(diào)

    X-Ray工作距離:10mm,EDS檢出角35°
    樣品室:從左至右為340mm寬的大存儲(chǔ)空間,樣品室可拓展接口數(shù)量12個(gè),含能譜儀接口3個(gè)(其中2個(gè)處于180°對(duì)角位置)


    樣品臺(tái)和樣品:



    探測(cè)器系統(tǒng):

    同步檢測(cè)多達(dá)四種信號(hào),包括

    樣品室高真空二次電子探測(cè)器ETD
    低真空二次電子探測(cè)器LVD
    氣體SED(GSED,用于環(huán)境掃描模式)
    樣品室內(nèi)IR-CCD紅外相機(jī)(觀察樣品臺(tái)高度)
    樣品導(dǎo)航彩色光學(xué)相機(jī)Nav-Cam™
    珀?duì)柼_(tái)集成式STEM,用于觀察濕薄樣品- WetSTEM™


    控制系統(tǒng):
    操作系統(tǒng):64位GUI(Windows 7)、鍵盤(pán)、光學(xué)鼠標(biāo)
    圖像顯示:24寸LCD顯示器,WUXGA 1920×1200
    定制化的圖像用戶界面,可同時(shí)激活多達(dá)四個(gè)視圖
    導(dǎo)航蒙太奇
    軟件支持Undo和Redo功能


         在自然狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行預(yù)案為研究,具有環(huán)境真空模式(ESEM)的高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡;

         縮短樣品制備時(shí)間:低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對(duì)不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析,樣品表面無(wú)荷電累積;
         在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品,同步獲取二次電子像和背散射電子像;
    的分析性能,樣品倉(cāng)可同時(shí)安裝3三個(gè)EDS探測(cè)器,其中2個(gè)EDS端口分開(kāi)180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
         針對(duì)不導(dǎo)電樣品的分析性能:憑借“壓差真空系統(tǒng)”實(shí)現(xiàn)低真空模式下的精確EDS和EBSD分析;
         靈活、精確的優(yōu)中心樣品臺(tái),105°傾斜角度范圍,可觀察樣品;
    軟件直觀、簡(jiǎn)便易用,并配置用戶向?qū)Ъ癠ndo(撤銷)功能,操作步驟減少,分析更快速;
         全新創(chuàng)新選項(xiàng),包括可伸縮RGB陰極熒光(CL)探測(cè)器、1100℃高真空熱臺(tái)和AutoScript;


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