這是一套分析放射性發(fā)光的終點監(jiān)測設備，為以等離子技術為基礎的半導體薄膜制程進行終點檢定或等離子條件的監(jiān)控而研制。數(shù)學模型技術賦予它通過捕獲微弱信號的變化進行終點檢定的能力。在放射性發(fā)光中捕獲微弱變化的能力顯著地提高了靈敏度。對于抗干擾性的改善確保了本設備在復雜環(huán)境下持續(xù)不停的生產線上獲得高穩(wěn)定的運行。

產品介紹

特征

• 布賴特光柵

布賴特光學系統(tǒng)是通過HORIBA Jobin Yvon制造的一個巨大的，直徑為70 mm的偏差糾正凹面光柵而實現(xiàn)的。凹面光柵本身的聚光能力使其具有 比短焦距車爾尼特納型光譜儀更為明亮的一套簡易光學系統(tǒng)架構，并且可以小化因為鏡面及其他反射面造成的反射損失。

• 背光式CCD傳感器可以提供高靈敏度和高分辨度的2048個光學通道。

背光式CCD可以達到高量子效率，確保從紫外光到可見光之間的寬波段范圍內獲得穩(wěn)定的分光鏡使用。高靈敏度的測量在紫外光波段，特別是在那些較少受到干擾影響的波長范圍，使終點監(jiān)測成為可能。

• 專為*制程控制而準備的Sigma-P軟件

應制程控制的要求，此軟件可以執(zhí)行多種工序，從等離子體現(xiàn)象分析到測量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫創(chuàng)建和生產設備的遠程遙控。測量工序的可編程架構設計使其可以對多重監(jiān)測和時序處理進行設定。它賦予檢測器不僅可以被用于終點監(jiān)測，同時也可以被廣泛的用于等離子體環(huán)境下的監(jiān)測。

• 這是一種對于等離子體異常情況進行報警的*設計，也可以通過利用2種波長之間的變換系數(shù)來指導終點測量。
• 全回收功能

一旦收集到光譜學的數(shù)據(jù)后，對制程優(yōu)化或者終點監(jiān)測的模擬可以通過應用新的制程設計反復進行。

 

• 一個用于識別等離子中發(fā)光類別的數(shù)據(jù)庫已經包含在內
• 光譜學數(shù)據(jù)可以轉換成一個時距記錄曲線圖，或者可以通過屏幕格式，把操作波形，比對參考數(shù)據(jù)獲得的相對計算波形和其他信息顯示出來。
• 為時間記錄圖分析而準備的自動圖形軟件

從巨大并伴隨干擾的光譜數(shù)據(jù)中發(fā)現(xiàn)細微的圖形差異是一個艱巨的挑戰(zhàn)。自動圖形軟件將自動地找到圖形變化的特征并測定為合適的終點波長。

• 強大的終點數(shù)學模型。
• 通過使用客戶波長范圍的計算波形和過濾系統(tǒng)，終點可以被準確的發(fā)現(xiàn)。在接近2個區(qū)域的2條直線的交叉點，發(fā)展的數(shù)學模型賦予機臺穩(wěn)定的監(jiān)測細微變化的性能。此功能確保各點的變化準確地從干擾中被區(qū)分出來，正如終點在微小開放區(qū)域內的細號變化，都能被準確的監(jiān)測。
• 超出微小開放區(qū)域（<0.2%）的蝕刻監(jiān)測。

當頻率率波器將干擾信號從原始信號中過濾掉后，不同信號（粉色線）在圖形中的比率（黑色線）變化（上升（A+B+C）/減小（D+E+F））可以使我們準確監(jiān)測到終點的位置。

• 制程設計，一種伴隨分析結果同步自動完成的制程生成軟件（選擇項軟件）
• 制程設計是自動圖形分析工具的一種衍生版本。它賦予使用者通過在顯示器上實時的分析和模擬，生成數(shù)學模型。這種數(shù)學模型可以很容易地被構建到真實的制程里。對于那些微弱和復雜的發(fā)光類別型的終點監(jiān)測， 或者因制程條件的變化而不能被發(fā)現(xiàn)的終點監(jiān)測，或者類似情況，這種設計可以使制程研制的負擔大大減輕。
• *步：自動分離出波長變化的圖形；
• 第二步：使用接近的2條直線，鑒定出變化點；
• 第三步：通過完整的數(shù)學模型進行的EDP模擬管理可以被輸出和構建到Sigma-P中；*的統(tǒng)計處理：反饋給制程。
• 統(tǒng)計處理編輯可以從大量不同的視圖中分析日志數(shù)據(jù)，幫助提高異常分析和缺陷率。分析的結果可以被反饋到測量當中。